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一種用于
MOCVD
設備的噴淋頭
一種用于 MOCVD 設備的噴淋頭，屬于氣體噴淋裝置，解決現有噴淋頭存在的原料氣體不能均勻混合的問題，同時減少在噴淋頭頂部出現沉積堵塞噴口的問題。本發明包括底座、下隔板、上隔板、頂蓋和中心導管，頂蓋和底蓋之間被隔成上層氣腔、中間氣腔和底層腔體；多根上層氣管平行穿過上隔板、下隔板和底蓋，多根下層氣管平行穿過下隔板和底蓋，各上層氣管和下層氣管下端分別裝設有長噴嘴和短噴嘴；長噴嘴和短噴嘴在底蓋下表面交錯均勻排列。本發明通過
華中科技大學
2021-04-14
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