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研發階段/n成果簡介：HALT(HighAcceleratedolifetest)是一種發現缺陷的工序,它通過設置逐級遞增的加嚴的環境應力，加速暴露試驗樣品的缺陷和薄弱點，而后對暴露的缺陷和故障從設計、工藝和用料等諸方面進行分析和改進，從而達到提升可靠性的目的，最大的特點是設置高于樣品設計運行限的環境應力，從而使暴露故障的時間大大短于正常可靠性應力條件下的所需時間。HALT試驗目的：1）通過系統地施加工作應力和逐步增大的環境應力，來激發故障，暴露產品設計中的薄弱環節，為開發人員改進產品設計方案提供依

高鹽廢水、高氨氮廢水、高濃廢水、難降解廢水、重金屬廢水的處理一直是廢水處理的熱 點和難點問題，對設備、材質和工藝的要求極高，本技術綜合考慮以上難點，采用低壓膜蒸餾 技術，通過系統集成和優化，在較低能耗和較少設備投資的情況下，使出水達到國家排放標準 (甚至可以達到飲用純凈水的標準) ，并對廢水中有用成分盡可能進行回收，以降低成本。

產品介紹： 美術教育專業以培養德、智、體、美全面發展，較系統地掌握美術基本理論、基本知識和美術教師必備的職業和技能，能夠較好地適應民族教育改革發展，勝任小學美術教育教學工作為宗旨，兼顧培養從事與美術專業相關工作的實用性、應用性人才。美術又稱造型藝術、視覺藝術、空間藝術、靜態藝術。它是指藝術家運用一定的物質材料，如顏色、紙張、畫布、泥土、石頭、木料、金屬等，塑造可視的平面或立體的視覺形象，以反映自然和社會生活，表達藝術家的思想觀念和感情的一種藝術活動。 功能用途 主要用于大、中、小院校，美術院校，成人美術 ，藝術設計?。 美術功能室的特點： 培養和發展學生的好奇心和想象力，在教學環節和活動方式的布局上注意開放性和立體性。 通過啟發聯想訓練學生的創造性思維能力。 在美術活動中大膽的采用各種造型方式，并借助語言表達自己的想法。 培養學生的創新意識和動手實踐能力。 學生邏輯思維能力的培養、空間想象能力的培養。 為學生的作業作品搭建一個展示的平臺，提供更多的展覽展示機會，進而提高學生對美術的興趣，促進學生課堂的學習。同時也滲透了一種美術與生活的關系。生活藝術化，藝術生活化。

產品詳細介紹金融實驗室-實驗室管理平臺                                                                                                      咨詢QQ:   “實驗室管理平臺”，是為實現院校實驗室教學資源的科學化、自動化管理和運作，而研發提供的開放式、門戶式管理平臺，既能支持實驗資源、課程、用戶在平臺內的統一便捷管理，同時有助于具有院校個性特色的實驗室實體門戶的建設和展示。                對于院校:（1）有助于實現院校科學化、統一化的實驗資源管理；                                 （2）有助于搭建和展示具有院校特色的實驗門戶平臺 對于教師和學生：（1）充分有效地應用院校提供的實驗室資源系統；                                 （2）及時全面地掌握院校發布的實驗室資源信息   產品特色 門戶型平臺的搭建 ◆提供平臺橫幅、膚色、圖片、欄目、公告、信息、座右銘等個性化設置的功能，以支持具有院校風采特色的門戶界面的創建和展示。 ◆提供實驗室公告、院校信息、動態新聞等信息編輯發布和更新傳遞的功能，以幫助院校搭建信息通暢傳播的平臺。 專業的實驗室管理 ◆ 實驗室課程管理：支持管理員對實驗室以周為頻率進行課程設置和安排，以系統有效地發布和實施實驗室占用分配、課室預訂和實驗安排等管理工作。 ◆實驗室電腦管理：通過實驗室、IP地址和座位號定位的方式，支持管理員實時查看、維護和管理各實驗室電腦設備的物理信息（正常／已報廢）、使用狀態（占用/閑置）。 ◆ 實驗室用戶管理：通過實驗賬號與用戶學號掛鉤的方式，幫助管理用戶和教師用戶實時監控學員的個人信息、班級信息、登入時間、登出時間等考勤狀況。 科學化的資源管理 ◆將院校各實驗室軟件資源產品，清晰合理地實施分類整合管理，并實現所有資源產品在統一平臺上的直接、快捷調用。 ◆根據管理員、教師和學生三類實驗用戶定位，自動化生成適合不同角色訪問的實驗室資源體系框架，更有效地為實驗用戶提供資源使用引導。為更科學地支持實驗軟件資源的有效管理，平臺提供了使用率統計功能，以柱狀圖和圓餅圖的方式，生動形象地統計實驗用戶對實驗資源的使用次數、使用比例情況。

EV-400高真空金屬有機蒸發鍍膜機 真空腔室：前開門真空腔體，方便取放基片、更換鎢舟、添加蒸發材料以及真空室的日常維護保養； 真空系統：國產分子泵作為主抽泵，真空極限優于5.0?10-5Pa（經烘烤除氣后）；另可選進口磁懸浮分子泵或是低溫泵作為主抽泵，真空極限優于3.0?10-6Pa（經烘烤除氣后）； 真空抽速：大氣～8?10-4Pa≤30min； 蒸發源：4～6組歐美技術金屬或是有機束源爐蒸發源可選，多源共蒸獲得復合膜/分蒸獲得多層膜，功能強大，性能穩定； 蒸發電源：真空專業蒸發電源，恒流/恒功率控制。電流、功率可預先設置，可實現一鍵啟動和停止的自動控制功能； 基片臺：最大120mm基片/15～25mmITO/FTO玻璃25片，可定制一體化高精度刻蝕掩膜板；基片臺公轉，轉速0～20r/min連續可調； 基片臺功能：襯底可選擇加熱（室溫～300℃可調可控）或水冷，基片臺可選升降，源基距最大350mm； 濺射電源：直流脈沖濺射電源、全自動匹配的射頻濺射電源可任選； 膜厚監控儀：可選配國產或進口單水冷探頭膜厚儀； 可鍍材料：可沉積金屬（Au、Ag、Al、Ca、Cu、Mg、Fe、Cr、Ti、Ni等）、非金屬、化合物（MoO3、LiF等）及有機材料，可拓展沉積單層膜、多層膜及混合膜； 控制方式：PLC+觸摸屏控制系統，具備漏氣自檢與提示、通訊故障，實現一鍵抽停真空。