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熒光納米晶液相懸浮芯片
將基于熒光納米晶液相懸浮芯片技術應用于重大疾病的臨床檢測方法。研發成功了基于熒光納米晶體的多指標檢測技術，掌握了熒光納米晶體、熒光微球的核心制備技術、抗體的偶聯技術以及臨床診斷的檢測技術等。
上海交通大學
2023-05-09
石膏晶須工業化生產
成果簡介本項目的技術是采用氯化鈣溶液與稀硫酸反應， 晶須模板劑存在時緩慢生長成為二水硫酸鈣晶須， 溶液中同時生成鹽酸溶液。 反應后的濾液與石灰石反應又重新生成氯化鈣溶液， 可以繼續與稀硫酸反應再次生成二水硫酸鈣晶須。 本項目實際是以石灰石和稀硫酸為主要原料制備二水硫酸鈣晶須， 具有工藝簡單， 成本低廉的特點， 并且生產過程中沒有廢水排放， 廢氣生成和廢渣產生成熟程度和所需建設條件已完成工業化生產中試。技術指標晶須長 5-50 微米， 直徑 1-
安徽工業大學
2021-04-14
晶潤系列護眼錄播教室燈
了解更多產品詳情，請與我們聯系?180 6798 3675
公司官網：https://www.lierda.com
浙江利爾達客思智能科技有限公司
2021-08-23
晶潤系列護眼錄播教室燈
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浙江利爾達客思智能科技有限公司
2021-08-23
揚州晶明科技有限公司
揚州晶明專業提供應變測試、振動測試整體解決方案，專業生產動態信號測試分析系統、無線遙測設備、動靜態應變測試分析系統、模態測試分析系統、動靜態應變儀、振動測試儀、信號激勵系統、傳感器等。我們的產品主要應用于高等院校、科研院所、航空航天、國防軍工、交通橋梁、工礦企業的振動、噪聲、應變、爆炸、沖擊等工程測試。我們能為用戶提供從信號源、 功率放大器、激振設備、傳感器、信號調理器、數據采集器到信號分析處理等全套設備，能為用戶提供測試和檢測完整的解決方案。
我們的無線應變、無線加速度、無線振弦、無線電壓模塊、靜態應變儀、動態應變儀、電荷放大器、數據采集分析系統等產品已得到廣泛應用和客戶的一致好評，在滿足試驗室測試需要外，重點為工程測試項目提供更輕便，靈活和耐用的專業測試儀器。揚州晶明在廣大客戶的支持下，將不斷研發新一代測試設備，為廣大客戶提供更新的測試技術，更好地回報廣大客戶對公司的支持。
揚州晶明科技有限公司
2021-01-15
晶盾?氧化鋁纖維毯
氧化鋁纖維晶盾®毯，是一種以莫來石晶相形式存在耐火纖維，采用化學“膠體法”制成母液，經噴吹法或甩絲法成纖制得胚棉，后段燒等工藝處理生產的纖維。氧化鋁纖維毯，可應用于1250℃—1500℃各行業的高溫領域。產品特性：渣球含量低，顏色潔白，原料純度高耐高溫，高溫穩定性好低熱導率，高溫加熱線收縮小化學性能穩定，耐侵蝕性能強纖維直徑均勻，抗拉強度高主要技術性能指標： 氧化鋁纖維晶盾®毯代碼LYL
山東魯陽節能材料股份有限公司
2021-08-30
非煤礦山安全評價
1.項目簡介：目前，我省的非煤礦山受國家整體生產力水平落后的制約，存在著設備落后、人員素質差、安全投入少等狀況，加上其中非國有的中小型礦山占95%以上，非煤礦山企業整體安全生產形勢令人堪憂。 國家安全生產監督管理局規定，非煤礦山企業必須做安全評價。通過對非煤礦山企業做安全現狀評價，可解決企業在管理、設備、生產工藝方面的安全問題，對提高企業安全管理水平大有幫助。 我院于2004年12月依托湖北華邦安全科技有限公司成立了非煤礦山安全評價部，對省內非國有的非煤礦山企業做安全評價。
武漢工程大學
2021-04-11
非接觸式IC卡
定單信息
TES-5600CE 發卡器
TES-5600CE …………………………………………………………………………………………………………… 發卡器
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TES-5600K 非接觸式IC卡
TES-5600K …………………………………………… 非接觸式IC卡（支持ISO1443A協議，白卡100張，86×54 mm）
深圳市臺電實業有限公司
2021-08-23
一種柔性超疏水超疏油結構制備方法
本發明公開了一種柔性超疏水超疏油結構制備方法，該制備方 法包括如下步驟：(1)制作柔性超疏水超疏油結構底層：在基底上旋涂 一層負性光刻膠，不用掩膜進行曝光；(2)在步驟(1)曝光后的負性光刻 膠上旋涂一層負性光刻膠，利用陣列圖形掩膜進行曝光；(3)結構層光 刻膠第二次曝光：采用跟步驟(2)對應的掩模進行套刻曝光；(4)顯影： 將上述步驟中曝光后的結構進行顯影；(5)鍍保護層膜：在步驟(4)中得 到的結構表面形成一層保護膜；(6)剝離：將經過步驟(5)處理后得到的 結構從基底上剝離，得到所述柔性超疏水超疏油結構。按照本發明的 制備方法，工藝簡單，成本低廉，對該柔性超疏水超疏油結構的普及 應用具有極大的促進作用。
華中科技大學
2021-04-11
一種柔性超疏水超疏油結構制備方法
本發明公開了一種柔性超疏水超疏油結構制備方法，該制備方法包括如下步驟：(1)制作柔性超疏水超疏油結構底層：在基底上旋涂一層負性光刻膠，不用掩膜進行曝光；(2)在步驟(1)曝光后的負性光刻膠上旋涂一層負性光刻膠，利用陣列圖形掩膜進行曝光；(3)結構層光刻膠第二次曝光：采用跟步驟(2)對應的掩模進行套刻曝光；(4)顯影：將上述步驟中曝光后的結構進行顯影；(5)鍍保護層膜：在步驟(4)中得到的結構表面形成一層保護膜；(6)剝離：將經過步驟(5)處理后得到的結構從基底上剝離，得到所述柔性超疏水超疏油結構。按
華中科技大學
2021-04-14