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含聚醚結構的陽離子活性染料
成果簡介： 傳統的活性染料在應用的過程中常常需要加入電解質進行促染，并且上染率不高（75%左右），這不僅增加了應用成本，而且提高了印染廢水處理難度。 陽離子活性染料的研發是纖維素纖維無鹽染色的一個重要方向。現有的陽離子活性染料僅限于蒽醌結構分散染料的季銨化改性，這種該有有個弊端：1是染料顏色
南京工業大學
2021-01-12
高性能鋁合金技術—含鉺鋁合金
北京工業大學在國家 973、863 計劃等支持下，發現添加鉺元素（Er）可增加鋁合金的強韌性和耐熱性，提高耐腐蝕性能和焊接性能；含鉺鋁合金應用意義：良好的耐蝕性、可焊性、成型性等工藝 應用性能，在此基礎上發展靜載荷強度（拉伸性能）、抗沖擊、抗疲勞及高損傷容限等綜合力學性能； 滿足輕質高效、安全性、長壽命和低成本等應用需求。
北京工業大學
2021-04-13
工業冶煉含硫化氫煙氣處理技術
上海交通大學
2021-04-13
高性能鋁合金技術—含鉺鋁合金
北京工業大學
2021-04-14
新型含能配合物類GTG起爆藥（產品）
成果簡介：GTG起爆藥是一種配合物類高能鈍感起爆藥。GTG起爆藥技術是北京理工大學在引進俄羅斯CCP起爆藥技術的基礎上，通過多年的研究和工藝改進、實施國產化形成的專利技術。大量的研究結果和工業生產使用證明，GTG起爆藥可以滿足軍用、民用雷管的使用要求、從本質上解決了起爆藥生產過程安全性和使用過程可靠性的技術難題、極大地減少起爆藥生產廢水、消除了對環境的污染。 項目來源：自行開發 技術領域：新材料 應用范圍：民用爆破 現狀特點： ?
北京理工大學
2021-04-14
含烴石化尾氣梯級耦合膜分離技術
一種綜合回收含烴石化尾氣中氫氣、輕烴以及其他高附加值物質的集中回收方法。該方法充分考慮物料壓力和組成的特點，將變壓吸附、氣體膜分離等新型分離技術與精餾、吸收和壓縮冷凝等傳統分離技術有機結合，按照分離要求將各分離工藝梯級布局。通過各分離技術的相互促進作用，改善了各分離工藝的操作條件，從而提高了能源的利用效率和物質的回收率；具有多目標同時回收、目標回收率高、能源利用率高，能從低目標濃度的煉廠氣中回收目標產品的優點；適用于石油煉制與加工領域。
大連理工大學
2021-04-14
含濕污泥增氧燃燒方法及裝置
本發明提供了一種含濕污泥增氧燃燒方法，具體為：向燃燒器內通入直流的一次風以及從旋流的二次風，噴油點火燃燒；待燃燒穩定后通入富氧空氣形成富氧氣氛繼續燃燒；將含濕污泥霧化后通入燃燒器，通入污泥的同時逐漸增加富氧空氣流量，完成污泥燃燒。本發明提供了實現所述方法的裝置，包括污泥燃燒器、污泥霧化器和點火油槍，污泥燃燒器的端部中心處設有污泥噴嘴，以污泥噴嘴為中心由內向外依次設有富氧空氣噴嘴、一次風噴嘴、二次風噴嘴；污泥霧化器安裝于污泥噴嘴的出口處；點火油槍安裝于污泥燃燒器內壁。本發明通過富氧氣氛下的含濕污泥直接燃燒，著火穩定，燃燒高效，克服了現有常規污泥焚燒方法中污泥干燥過程中能耗大、工藝復雜的缺點，具有良好的節能環保效應。
華中科技大學
2021-04-13
高加速壽命試驗/高加速應力篩選測試技術
研發階段/n成果簡介：HALT(HighAcceleratedolifetest)是一種發現缺陷的工序,它通過設置逐級遞增的加嚴的環境應力，加速暴露試驗樣品的缺陷和薄弱點，而后對暴露的缺陷和故障從設計、工藝和用料等諸方面進行分析和改進，從而達到提升可靠性的目的，最大的特點是設置高于樣品設計運行限的環境應力，從而使暴露故障的時間大大短于正常可靠性應力條件下的所需時間。HALT試驗目的：1）通過系統地施加工作應力和逐步增大的環境應力，來激發故障，暴露產品設計中的薄弱環節，為開發人員改進產品設計方案提供依
湖北工業大學
2021-01-12
高鹽、高氨氮、高濃、難降解、重金屬廢水 的處理工藝
高鹽廢水、高氨氮廢水、高濃廢水、難降解廢水、重金屬廢水的處理一直是廢水處理的熱 點和難點問題，對設備、材質和工藝的要求極高，本技術綜合考慮以上難點，采用低壓膜蒸餾 技術，通過系統集成和優化，在較低能耗和較少設備投資的情況下，使出水達到國家排放標準 (甚至可以達到飲用純凈水的標準) ，并對廢水中有用成分盡可能進行回收，以降低成本。
華東理工大學
2021-04-13
維意真空高真空金屬有機蒸發鍍膜機支持定制
EV-400高真空金屬有機蒸發鍍膜機
真空腔室：前開門真空腔體，方便取放基片、更換鎢舟、添加蒸發材料以及真空室的日常維護保養；
真空系統：國產分子泵作為主抽泵，真空極限優于5.0?10-5Pa（經烘烤除氣后）；另可選進口磁懸浮分子泵或是低溫泵作為主抽泵，真空極限優于3.0?10-6Pa（經烘烤除氣后）；
真空抽速：大氣～8?10-4Pa≤30min；
蒸發源：4～6組歐美技術金屬或是有機束源爐蒸發源可選，多源共蒸獲得復合膜/分蒸獲得多層膜，功能強大，性能穩定；
蒸發電源：真空專業蒸發電源，恒流/恒功率控制。電流、功率可預先設置，可實現一鍵啟動和停止的自動控制功能；
基片臺：最大120mm基片/15～25mmITO/FTO玻璃25片，可定制一體化高精度刻蝕掩膜板；基片臺公轉，轉速0～20r/min連續可調；
基片臺功能：襯底可選擇加熱（室溫～300℃可調可控）或水冷，基片臺可選升降，源基距最大350mm；
濺射電源：直流脈沖濺射電源、全自動匹配的射頻濺射電源可任選；
膜厚監控儀：可選配國產或進口單水冷探頭膜厚儀；
可鍍材料：可沉積金屬（Au、Ag、Al、Ca、Cu、Mg、Fe、Cr、Ti、Ni等）、非金屬、化合物（MoO3、LiF等）及有機材料，可拓展沉積單層膜、多層膜及混合膜；
控制方式：PLC+觸摸屏控制系統，具備漏氣自檢與提示、通訊故障，實現一鍵抽停真空。
北京維意真空技術應用有限責任公司
2025-04-25