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一種單分散氧化鎵粉體及其高密度陶瓷靶材的制備方法 發(fā)明專利/實(shí)用新型/：發(fā)明授權(quán) 簡(jiǎn)介：本發(fā)明公開了一種單分散氧化鎵粉體及其高密度陶瓷靶材的制 備方法，其將純度為 99.99％以上的金屬鎵原料溶解于酸中，配制澄清 的鎵鹽溶液，加入沉淀劑產(chǎn)生沉淀物，將獲得的沉淀經(jīng)洗滌、過濾、 干燥、煅燒制成單分散超細(xì)氧化鎵粉體；用合成的單分散氧化鎵粉體 作為原料，經(jīng)模壓成型和冷等靜壓強(qiáng)化獲得氧化鎵生坯，將生坯放在 高溫爐

一種用于預(yù)測(cè)多元拼合靶材制備的薄膜成分的預(yù)測(cè)方法 一、項(xiàng)目分類 顯著效益成果轉(zhuǎn)化 二、成果簡(jiǎn)介 現(xiàn)有物理氣相沉積（PVD）制備多元薄膜材料采用合金靶材作為靶源，生產(chǎn)過程中，薄膜成分的調(diào)控范圍受安裝的合金靶材的成分比例的限制。如果預(yù)期獲得納微復(fù)雜結(jié)構(gòu)的復(fù)合薄膜，按照常規(guī)技術(shù)路線需要上百塊成分連續(xù)變化的合金靶材，這顯然是無法實(shí)現(xiàn)的。同時(shí)，采用合金靶材制備某些多元薄膜時(shí)，需要特高純度的或極端成分比例的靶材作為靶源，這類特殊靶材以現(xiàn)有技術(shù)難以制造。 為此，本發(fā)明研發(fā)出一種用于預(yù)測(cè)多元拼合靶材制備的薄膜成分的預(yù)測(cè)方法，利用本發(fā)明技術(shù)有助于新材料的研發(fā)和促進(jìn)半導(dǎo)體器件、切削刀具涂層等高新技術(shù)的發(fā)展。

面向大尺寸高精度陶瓷及其復(fù)合材料復(fù)雜形狀結(jié)構(gòu)的成形，基于面曝光技術(shù)，開發(fā)了專用大尺寸陶瓷增材制造成形裝備及相關(guān)工藝。 技術(shù)特征 基于面曝光技術(shù)的陶瓷預(yù)制體成形設(shè)備可成形ZrO2、Al2O3陶瓷預(yù)制體，利用微透鏡陣列聚焦及光斑微偏移技術(shù)，分辨率可提升到37.5μm，結(jié)合收縮預(yù)測(cè)技術(shù)，大大提高陶瓷成形精度，成形尺寸達(dá)270mm×300mm×450mm，成形相對(duì)精度達(dá)到±1%，同時(shí)配套研發(fā)了無缺陷脫脂與燒結(jié)工藝，燒結(jié)樣件致密度可達(dá)97%。

面向大尺寸高精度陶瓷及其復(fù)合材料復(fù)雜形狀結(jié)構(gòu)的成形，基于面曝光技術(shù)，開發(fā)了專用大尺寸陶瓷增材制造成形裝備及相關(guān)工藝。技術(shù)特征基于面曝光技術(shù)的陶瓷預(yù)制體成形設(shè)備可成形ZrO2、Al2O3陶瓷預(yù)制體，利用微透鏡陣列聚焦及光斑微偏移技術(shù)，分辨率可提升到37.5μm，結(jié)合收縮預(yù)測(cè)技術(shù)，大大提高陶瓷成形精度，成形尺寸達(dá)270mm×300mm×450mm，成形相對(duì)精度達(dá)到±1%，同時(shí)配套研發(fā)了無缺陷脫脂與燒結(jié)工藝，燒結(jié)樣件致密度可達(dá)97%。應(yīng)用范圍:該項(xiàng)目研發(fā)了高精度結(jié)構(gòu)陶瓷復(fù)雜結(jié)構(gòu)成形的增材制造裝備，并開展了相關(guān)工藝的研究，解決了工程陶瓷材料難以成形復(fù)雜結(jié)構(gòu)的難題。項(xiàng)目所涉及技術(shù)可成功制備低介陶瓷無源器件、仿生多孔結(jié)構(gòu)與吸波超結(jié)構(gòu)等，可在航空航天、衛(wèi)星、雷達(dá)等領(lǐng)域得到廣泛的應(yīng)用。

從底層材料設(shè)計(jì)出發(fā)制備性能優(yōu)異的可打印氧化鋯漿料，研制快速高質(zhì)量立體光固化打印系統(tǒng)，優(yōu)化脫脂燒結(jié)工藝流程，實(shí)現(xiàn)機(jī)械性能優(yōu)異、生物相容性極佳、美觀性良好的氧化鋯陶瓷快速、低成本打印制造。 一、項(xiàng)目分類 顯著效益成果轉(zhuǎn)化 二、成果簡(jiǎn)介 制備較低粘度、高固含量的氧化鋯漿料和優(yōu)化的脫脂、燒結(jié)過程成為光固化成型技術(shù)的關(guān)鍵步驟。為解決以上問題，推動(dòng)增材制造氧化鋯在口腔臨床中的應(yīng)用，申報(bào)人團(tuán)隊(duì)從底層材料設(shè)計(jì)出發(fā)制備性能優(yōu)異的可打印氧化鋯漿料，研制快速高質(zhì)量立體光固化打印系統(tǒng)，優(yōu)化脫脂燒結(jié)工藝流程，實(shí)現(xiàn)機(jī)械性能優(yōu)異、生物相容性極佳、美觀性良好的氧化鋯陶瓷快速、低成本打印制造。

氧化銦錫（indium-tin-oxide）簡(jiǎn)稱ITO，ITO靶材是一種功能陶瓷材料，主要用于制造ITO透明導(dǎo)電膜玻璃。以金屬銦、錫為原料采用共沉淀法制備出納米級(jí)ITO復(fù)合粉體。粉體造粒成型后分別采用加壓和常壓燒結(jié)法制備出相對(duì)理論密度大于99.5%、氧化銦單一相的ITO靶材。 粉體純度大于99.99%、顆粒分散性好，粒徑10nm—80nm之間可控，BET比表面積30~60m2/g ，In2O3:90.0±0.5%，SnO2: 10.0±0.5%；ITO靶材相對(duì)理論密度99.5%。 威海市藍(lán)狐特種材料有限公司已采用該技術(shù)建設(shè)年產(chǎn)20噸納米級(jí)氧化銦錫復(fù)合粉體生產(chǎn)線，采用該粉體燒制的ITO靶材相對(duì)理論密度達(dá)到99%以上。國內(nèi)相對(duì)理論密度大于99%的ITO靶材主采用進(jìn)口產(chǎn)品。 金屬銦、錫是我國的優(yōu)勢(shì)資源，生產(chǎn)設(shè)備都是定型通用設(shè)備，年產(chǎn)20噸納米級(jí)氧化銦錫粉體和高密度ITO靶材的生產(chǎn)廠需要人員50名。納米級(jí)氧化銦錫粉體制備已建設(shè)年產(chǎn)20噸生產(chǎn)線。高密度ITO靶材的制備已完成實(shí)驗(yàn)室小試。

本發(fā)明涉及金屬材料加工技術(shù)領(lǐng)域，具體涉及一種高擇優(yōu)取向細(xì)晶超高純鋁靶材的制備方法。包括以下步驟：將超高純鋁板材于５０℃～３００℃下熱軋，道次壓下量控制在４０％～５０％；將熱軋后的超高純鋁板材在１００～３００℃溫度下保溫０～１小時(shí)；然后進(jìn)行冷軋，道次壓下量控制在４０％～５０％，通過對(duì)板材進(jìn)行道次間空冷、水冷以及冰水冷卻控制板材軋制過程的溫升，抑制板材的

成果與項(xiàng)目的背景及主要用途： Cr-Si 中高阻膜電阻器具有精度高、噪聲低、溫度系數(shù)小、耐熱性和穩(wěn)定性 好等優(yōu)點(diǎn)，在精密電子設(shè)備和混合集成電路中大量采用。對(duì)于濺射制備電阻膜來 說，靶材是至關(guān)重要的，它制約著金屬膜電阻器的電阻率、精度、可靠性、電阻 溫度系數(shù)（Temperature Coefficient of Resistance, TCR）等性能。電阻溫度系數(shù) (TCR)是金屬膜電阻器的一個(gè)重要性能技術(shù)指標(biāo)之一，較大的 TCR 在溫度變化時(shí) 會(huì)造成電阻值漂移，從而影響電阻器的精度和穩(wěn)定性。目前國內(nèi)外生產(chǎn)的金屬膜 電阻器用高阻靶材，其性能不能滿足低 TCR（≤25ppm/℃）要求。 技術(shù)原理與工藝流程簡(jiǎn)介： 靶材煉制工藝如下圖所示所制備的靶材(382 mm ×128 mm ×14 mm)在濺射成電阻器薄膜后, 電阻溫度 系數(shù)小(≤25 ×10-6 / ℃), 電阻值高(要求不刻槽數(shù)量級(jí)為千歐, 刻槽后數(shù)量級(jí)為 兆歐)且穩(wěn)定(隨時(shí)間變化小), 因此, 在本靶材研究中, 將選擇 Cr 、Si 作為高阻 靶材的主體材料。由于 C r 、Si 熔點(diǎn)高, 原子移動(dòng)性低, 因此由其所組成的薄膜 穩(wěn)定性高。通過在金屬 C r 中引入半導(dǎo)體材料 Si 來提高電阻器合金膜的阻值。 C r 是很好的吸收氣體的金屬元素, 在電阻器薄膜濺射過程中, 可通過通入微量 的氧來提高薄膜的電阻率, 同時(shí)調(diào)節(jié)電阻溫度系數(shù)。 技術(shù)指標(biāo)如下： 溫度沖擊實(shí)驗(yàn)后 ΔR/R ≤±0 .5 %, 過載實(shí)驗(yàn)后 ΔR/R ≤±0 .5 %, 壽命實(shí)驗(yàn)后 ΔR/R ≤±1 .0 %,電阻溫度系數(shù) TCR ≤±20 ×10-6 / ℃。 應(yīng)用領(lǐng)域： 集成電路、電子元器件 合作方式及條件：具體面議 2 半導(dǎo)體微環(huán)激光器 3 基光電集成電路 4 無線網(wǎng)絡(luò)與應(yīng)用：協(xié)作無線網(wǎng)絡(luò) 5 移動(dòng)通信—LTE 技術(shù)

本發(fā)明公開了一種基于陶瓷材料的增材制造成形裝置，其特征 在于，該裝置包括：光固化機(jī)構(gòu)、傳動(dòng)機(jī)構(gòu)以及擠出回抽機(jī)構(gòu)，所述 光固化機(jī)構(gòu)設(shè)于所述擠出回抽機(jī)構(gòu)的一端，所述傳動(dòng)機(jī)構(gòu)設(shè)于所述擠 出回抽機(jī)構(gòu)的另一端；其中，所述光固化機(jī)構(gòu)包括調(diào)光器(15)、紫外線 燈固定盤(16)和紫外固化燈(17)；所述擠出回抽機(jī)構(gòu)包括噴嘴(1)、噴嘴 連接件(2)、螺桿(3)、料筒(4)及料斗(6)；所述傳動(dòng)機(jī)構(gòu)包括電機(jī)(12)和 聯(lián)軸器(11)

成果簡(jiǎn)介智能健身游戲拳擊靶將現(xiàn)代電子技術(shù)與體育運(yùn)動(dòng)器材拳擊靶相結(jié)合， 可提供拳擊力度、 頻度、 準(zhǔn)確度等參數(shù)的測(cè)量與顯示， 進(jìn)行等級(jí)評(píng)價(jià)并語音播報(bào)， 避免了傳統(tǒng)訓(xùn)練時(shí)的盲目性和枯燥、 單調(diào)性， 可以幫助訓(xùn)練者合理、 科學(xué)地制定健身方案， 提高訓(xùn)練效率。 適用于職業(yè)拳擊手和業(yè)余愛好者。設(shè)計(jì)原理： 在拳擊靶內(nèi)嵌入一個(gè)壓力傳感器， 并采用無線發(fā)送壓力傳感器的采集的數(shù)據(jù)， 交給中央控制器處理、 分析， 計(jì)算出拳擊的力度、 平均值、 歷史最高值以及擊打的頻率。 功能選擇按鍵部分，