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（專利號：ZL 201410545674.X） 簡介：本發(fā)明公開了一種含有-SO3H的酸性磁性材料催化制備縮醛(酮)的方法，屬于化學(xué)材料及其制備技術(shù)領(lǐng)域。該制備方法中所用醛或酮與醇的摩爾比為1：(1～5)，以-SO3H計算所用酸性磁性材料催化劑的摩爾量是所用醛或酮的8～10％，反應(yīng)溫度為110℃，反應(yīng)時間為0.5～3h，反應(yīng)壓力為一個大氣壓，反應(yīng)后冷卻至室溫，用磁鐵吸出催化劑，反應(yīng)液通過氣相色譜分析檢測反應(yīng)原料的轉(zhuǎn)化率、選擇性及縮醛(酮)

產(chǎn)品詳細介紹 1.      主要參數(shù)： ★掃描方式：激光手持照相式 ★掃描技術(shù)：激光線網(wǎng)格掃描技術(shù) 幀掃描區(qū)域：250mm×250mm 景深：250mm（自動） 工作距離：300mm ★掃描速率： 300000次/秒 掃描分辨率：0.100（毫米） ★測量精度：0.03 mm ★體積精度：0.020 + 0.100（毫米/米） 體積精度（結(jié)合DigiMetric）：0.020 + 0.025（毫米/米） 測量范圍（物件尺寸）：0.1 ～6米，可擴展 傳輸方式： USB3.0 工作溫度：-10 - 40℃ 工作濕度：10 - 90 % 三維光學(xué)掃描系統(tǒng)配置與功能 數(shù)據(jù)采集傳感器：高速、高精密工業(yè)級相機2臺 ★內(nèi)置微慣性傳感器，實時輸出設(shè)備位姿； ★測量光源：10束交叉激光線，激光級別ClassII(人眼安全)，波長大于600納米 計算機系統(tǒng)：支持windows 7，32位和64位操作系統(tǒng)，支持內(nèi)存16G以上 拼接方式：系統(tǒng)整合“專業(yè)模式”全自動標志點拼接模塊 全局誤差控制方式：GREC Pro全局誤差控制 ★掃描方式：FLESA可變點距掃描 ★使用方便：整個過程全部手持完成，無需三腳架等支撐裝置 所測量的物體表面可不做任何形式（如噴白）的預(yù)先處理 防抖設(shè)計：采用先進的防抖動算法，防止掃描過程中人為的抖動對誤差的影響 自動探測被掃描物體顏色材質(zhì)，從而自動調(diào)節(jié)激光亮度及CCD曝光 可一鍵自動過濾掃描背景數(shù)據(jù)，自動刪除雜點及過濾不良點云數(shù)據(jù) 軟件界面實時捕捉靜態(tài)圖像，一鍵截圖功能 ★碳纖維材質(zhì)標定板，輕量化，抗壓耐高溫，不易變形，非石英玻璃材質(zhì)。雙面標定，白平衡標定功能，有效減少掃描噪聲 三維光學(xué)掃描系統(tǒng)軟件功能 ★全中文軟件界面 ★自適應(yīng)形面掃描模塊 自動調(diào)節(jié)系統(tǒng)參數(shù)，自適應(yīng)各種材質(zhì)/顏色表面的不同掃描對象，無需手動調(diào)節(jié)； FLESA可變點距掃描，在同一次掃描中，可對點距進行靈活設(shè)置和改變，同時滿足高速掃描以及精細掃描的需求 ★自動拼接模塊 智能標志點識別技術(shù)：系統(tǒng)自動跟蹤識別標志點； 慣性—光學(xué)混合式傳感器定位技術(shù)，實時將數(shù)據(jù)自動配準到同一坐標系； GREC Pro全局誤差控制模塊，可對拼接后的誤差進行全局控制； ★全局框架掃描模塊 全局框架掃描技術(shù)，對框架點累積誤差進行全局控制； 兼容DigiMetric系統(tǒng)，搭載全局攝影測量技術(shù)可將掃描范圍擴展至幾十米； ★后處理模塊 掃描數(shù)據(jù)后，可進行點云噪聲處理及修剪 內(nèi)置友好的網(wǎng)格處理控制參數(shù)人機交互界面，可對去除釘狀物、精簡、平滑、特征銳化等網(wǎng)格處理參數(shù)進行設(shè)置 自動生成STL三角面 自動對三角網(wǎng)格數(shù)據(jù)進行補洞、去除釘狀物、精簡、平滑、特征銳化等處理 數(shù)據(jù)輸入輸出 導(dǎo)出結(jié)果為ASC，STL，OBJ，OKO等格式數(shù)據(jù)輸出接口廣泛,測量結(jié)果可與CATIA、Geomagic Studio、Imageware等逆向工程軟件自由交換數(shù)據(jù) 配備三維數(shù)據(jù)管理系統(tǒng)  1套 采用三維引擎實現(xiàn)對三維模型、圖片和文字的顯示； ★采用Access數(shù)據(jù)庫，可實現(xiàn)對對象的樹狀管理和從圖片上選擇區(qū)域進行切換等功能，從而實現(xiàn)對三維數(shù)據(jù)、圖片和文字的有效管理； ★能對三維數(shù)據(jù)進行多層次樹狀結(jié)構(gòu)管理，實現(xiàn)從大場景到局部細節(jié)的有效管理； ★支持對三維模型、圖片和文字的綜合管理，并能相互切換； 支持從圖片上選擇區(qū)域切換，用戶可以隨心所欲的瀏覽對象的每一個細節(jié)； ★截取高清晰的光照圖信息； ★實現(xiàn)對三維模型的分析如距離等進行量測，得到最準確的測繪資料； 數(shù)據(jù)庫基于Windows XP操作系統(tǒng)； 三維模型的支持格式為： STL，OBJ，VRML，IGES，OKO； 圖片支持的格式為：JPG，BMP； 文字支持的格式為：html； ★素材支持：配備一個3d素材庫，素材庫數(shù)量須大于2萬個，素材涵蓋人物、卡通、教育、建筑、時尚、玩具、動物、植物、家居、工具、動漫游戲等類別，素材擁有25個以上特色專題，每個專題包含至少5個以上同類別優(yōu)質(zhì)素材。素材庫包含網(wǎng)站及APP，APP同步支持安卓及IOS下載，素材庫系統(tǒng)須取得電腦終端與iphone移動終端及Android移動終端《計算機軟件著作權(quán)登記證書》。 2. 提供生產(chǎn)廠商對本項目的原廠項目授權(quán)委托書及售后服務(wù)承諾書原件。（須加蓋生產(chǎn)廠商單位公章） 3. 投標單位配備的3D模型庫需提供《軟件著作權(quán)登記證書》。（復(fù)印件并加蓋軟件供應(yīng)商單位公章） 4. 投標人所投3D掃描儀具有中美青年創(chuàng)客大賽指定3D掃描品牌證書 第1條所列產(chǎn)品參數(shù)為招標基礎(chǔ)要求，加★部分為必須滿足項，投標產(chǎn)品的參數(shù)值應(yīng)符合或高于本條要求。投標單位須提供投標產(chǎn)品的印刷彩頁，并加蓋生產(chǎn)廠商單位公章，否則視為不能響應(yīng)招標參數(shù)。 第2條項目授權(quán)委托書及售后服務(wù)承諾書須提供原件并加蓋生產(chǎn)廠商單位公章，否則視為不能響應(yīng)招標文件參數(shù)。 第3條《軟件著作權(quán)登記證書》須提供復(fù)印件并加蓋軟件供應(yīng)商單位公章，否則視為不能響應(yīng)招標文件參數(shù)。 第4條要求為招標附加要求，投標產(chǎn)品如符合要求，可加5分，如不符合，須減5分。

本發(fā)明公開了一種面向自由組合化可快速插裝的生物3D打印噴頭及其方法,可以通過燕尾連接塊連接實現(xiàn)多個主/副電磁閥快噴頭單元的自由組合與快速組裝，且多個噴頭單元只需一個供氣口供氣，解決了傳統(tǒng)打印噴頭每個噴頭單元都需要一個供氣口的技術(shù)難題，同時組裝在一起的多個噴頭單元可以在垂直方向上用一個電機或其他傳動裝置來控制沉積高度，噴頭單元可利用擠出的氣動壓力使噴頭單元內(nèi)部料筒向下運動從而將工作的噴頭從其他噴頭中篩選出來，這樣可實現(xiàn)多個噴頭單元的快速組裝，而且避免其他噴頭對工作成形面的干擾，也可簡化系統(tǒng)結(jié)構(gòu)，降低成本。

石墨烯是材料科學(xué)領(lǐng)域的一顆迅速崛起的明星，開啟了二維材料的大門。作為納米光電子器件廣泛使用的理想電極材料，石墨烯除了具有優(yōu)異的彈性和剛度外，還具有最高的載流子遷移率(104-105 cm2 V-1 s-1)。然而，石墨烯作為一種典型的半金屬材料，它的零帶隙極大地限制了其在半導(dǎo)體工業(yè)的應(yīng)用。自石墨烯被發(fā)現(xiàn)以來，它的零帶隙一直是世界范圍內(nèi)最具挑戰(zhàn)性的難題之一。  多年來，人們一直致力于解決這一關(guān)鍵問題，最主要的打開石墨烯帶隙方法可以概括為下面兩種。第一種是通過摻雜、吸附、襯底相互作用、外加電場、應(yīng)變、建立二維異質(zhì)結(jié)等方法直接打開石墨烯的帶隙。不幸的是，在打開石墨烯帶隙的同時，保持其具有超高載流子遷移率的線性電子色散的多種嘗試，至今仍未成功。第二種方法是開辟新的路徑，尋找新的具有超高載流子遷移率（線性色散）的二維材料，如二硫化鉬、硅烯、鍺烯和磷烯等，它們構(gòu)成了新的二維材料家族。遺憾的是，迄今還沒有發(fā)現(xiàn)任何具有類似石墨烯線性電子色散和超高載流子遷移率的二維半導(dǎo)體。 北京大學(xué)物理學(xué)院史俊杰教授及其研究團隊注意到：鈣鈦礦材料具有多樣的組成和結(jié)構(gòu)，如ABX3(具有三個不同原子位置的三維結(jié)構(gòu))、A'2[An-1BnX3n+1] (二維Ruddlesden-Popper型結(jié)構(gòu))、A'[An-1BnX3n+1] (二維Dion-Jacobson型結(jié)構(gòu))、A'2An-1BnX3n+3(二維111型結(jié)構(gòu))和AnBnX3n+2(二維110型結(jié)構(gòu))等，為材料設(shè)計提供了一個理想和龐大的平臺。此外，鈣鈦礦結(jié)構(gòu)中陽（陰）離子價態(tài)的劈裂和置換，陽（陰）離子的混合等，為組分工程提供了更多的可能性，從而極大地調(diào)節(jié)了所設(shè)計的鈣鈦礦材料的電子結(jié)構(gòu)（帶隙和電子色散）及物理、化學(xué)性質(zhì)，為尋找具有新奇性質(zhì)的材料開辟了一條新的道路。圖注：左圖為二維Ca3Sn2S7鈣鈦礦結(jié)構(gòu)示意圖，中圖為它的三維線性色散能帶圖（帶隙0.5 eV），右圖為它的光吸收系數(shù)，并與光伏明星材料MAPbI3及Si的光吸收系數(shù)作對比。 最近，他們在硫化物鈣鈦礦的研究中，意外發(fā)現(xiàn)了一種新奇的穩(wěn)定且環(huán)境友好的二維鈣鈦礦半導(dǎo)體Ca3Sn2S7材料，它具有類似石墨烯的線性Dirac錐電子色散，直接的本征準粒子帶隙0.5 eV，超小載流子有效質(zhì)量0.04m0，室溫下載流子遷移率高達6.7×104 cm2V-1s-1，光吸收系數(shù)高達105 cm-1（超越鈣鈦礦光伏明星材料MAPbI3）, 從一個全新的角度實現(xiàn)了打開石墨烯帶隙的夢想。該研究將會為二維鈣鈦礦材料的設(shè)計和研發(fā)提供新的思路，并進一步促進半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)的發(fā)展。

本發(fā)明提出一種3?苯磺酰類香豆素類化合物的合成方法，屬于有機合成領(lǐng)域，能夠直接利用香豆素類化合物與苯亞磺酸鈉類化合物為原料合成3?苯磺酰類香豆素類化合物。該技術(shù)方案包括向反應(yīng)瓶中分別加入香豆素類化合物和苯亞磺酸鈉類化合物，在碘和二甲基亞砜作用下，于55℃?70℃溫度下反應(yīng)8?10小時；待反應(yīng)結(jié)束后，進行色譜分離，得到3?苯磺酰類香豆素類化合物。本發(fā)明能夠應(yīng)用于3?苯磺酰類香豆素類化合物的合成中，該

一種 g-C3N4/NiCo2S4 復(fù)合材料、制備方法及其應(yīng)用。具體是將 g-C3N4 和 NiCo2S4 混合得到，該混合可以是固相混合，也可以是液相 混合，本發(fā)明得到的 g-C3N4/NiCo2S4 復(fù)合材料能極大的增加了提高材 料的穩(wěn)定性，將復(fù)合電極作為超級電容器工作電極材料進行測試，在 大電流密度條件下仍能具有較高的比電容量、較好的倍率性能和循環(huán) 穩(wěn)定性。

簡介：本發(fā)明公開了一種鉀摻雜介孔g?C3N4光催化材料在降解有機染料廢水中的應(yīng)用，屬于光催化材料技術(shù)領(lǐng)域。該光催化材料的制備包括如下步驟：將三聚氰胺和KI充分研磨后平鋪于坩堝底部，將SBA?15均勻的分散在三聚氰胺和KI混合物的上面，然后將坩堝加蓋后置于馬弗爐內(nèi)進行煅燒，產(chǎn)物經(jīng)處理后即得所述鉀摻雜介孔g?C3N4光催化材料。該光催化材料比表面積大使得反應(yīng)活性位點增加，鉀摻雜后可有效抑制光生電子和空穴的復(fù)合，表現(xiàn)出更優(yōu)異的光催化性能。本發(fā)明鉀摻雜介孔g?C3N4光催化材料可降解有機染料廢水，在60min能降解80％以上的目標降解物，顯示了優(yōu)異的光催化活性。

本發(fā)明公開了一種基于納秒-皮秒-飛秒激光技術(shù)的金屬制品 3D 打印方法，該方法采用集成光纖激 光器提供納秒激光對金屬原材料進行燒結(jié)熔化及固化，同時，使用皮秒或飛秒激光對精加工區(qū)域進行 精加工。實時監(jiān)測系統(tǒng)可采用多種宏觀和微觀檢測手段，具體選用哪些檢測手段取決于待制作產(chǎn)品所 需精度。本發(fā)明可實現(xiàn)更精確的尺寸控制，提高了打印效率，省去了傳統(tǒng) 3D 打印后所需的清

本發(fā)明提出了一種基于 3D 協(xié)同濾波與低秩矩陣重建的視頻去噪系統(tǒng)及方法，本發(fā)明首先對含噪視頻進 行 3D 協(xié)同濾波預(yù)處理，得到基礎(chǔ)估計然后對基礎(chǔ)估計再進行低秩矩陣重建來進行進一步的去噪，來得到最 終估計；本發(fā)明主要應(yīng)用于視頻去噪中，特別是應(yīng)用于基于 3D 協(xié)同濾波與低秩矩陣重建的視頻去噪；同時 本發(fā)明所提出去噪方法也適用于圖像的去噪，對于較大分辨率的圖像、視頻源也具有良好的去噪效果；此外， 本發(fā)明不僅對單純的高斯噪聲具有良好的去噪效果，同時對含