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上海高頓教育培訓有限公司
2021-02-01
高頓網校
國際、國內課程；線上公開課
上海高頓教育培訓有限公司
2021-02-01
節能環保顆粒氧化鉛移動床深度氧化快速冷卻
該技術以油代電、在移動床中實現深度氧化和快速冷卻，設備密閉，過程連續，是生產顆粒氧化鉛的國際首創全新技術。東南大學在實驗室研究、數學模型研究的基礎上，與江蘇天鵬化工集團有限公司合作，開發出顆粒氧化鉛移動床深度氧化煅燒和快速冷卻新技術，設計了兩套年產各為1500噸的生產裝置，經過調試，各項技術指標均達到設計要求。在此基礎上，經過工業試驗和審慎的放大設計，2000年兩套年產各為15000噸的放大裝置相繼投入生產。
東南大學
2021-04-10
一種便于更換氣流過濾網的醫用臭氧消毒柜裝置
一種便于更換氣流過濾網的醫用臭氧消毒柜裝置，包括臭氧氣流噴出裝置（5），所述臭氧氣流噴出裝置（5）包括內部設置有圓柱狀的消毒氣室（50）的環形內層部分（53）以及一體成型的環繞所述環形內層部分（53）的環形外殼部分（54），所述環形內層部分（53）中設置有沿著軸向方向分布的多圈吹送氣道組，每圈吹送氣道組中周向上均勻分布有多條徑向方向的吹送氣道（51）以將氣流沿著所述圓柱狀的消毒氣室（50）的徑向方向輸入，所述環形外殼部分（54）與所述環形內層部分（53）之間為環形的氣流分配腔室（540）。
青島大學
2021-04-13
高加速壽命試驗/高加速應力篩選測試技術
研發階段/n成果簡介：HALT(HighAcceleratedolifetest)是一種發現缺陷的工序,它通過設置逐級遞增的加嚴的環境應力，加速暴露試驗樣品的缺陷和薄弱點，而后對暴露的缺陷和故障從設計、工藝和用料等諸方面進行分析和改進，從而達到提升可靠性的目的，最大的特點是設置高于樣品設計運行限的環境應力，從而使暴露故障的時間大大短于正常可靠性應力條件下的所需時間。HALT試驗目的：1）通過系統地施加工作應力和逐步增大的環境應力，來激發故障，暴露產品設計中的薄弱環節，為開發人員改進產品設計方案提供依
湖北工業大學
2021-01-12
高鹽、高氨氮、高濃、難降解、重金屬廢水 的處理工藝
高鹽廢水、高氨氮廢水、高濃廢水、難降解廢水、重金屬廢水的處理一直是廢水處理的熱 點和難點問題，對設備、材質和工藝的要求極高，本技術綜合考慮以上難點，采用低壓膜蒸餾 技術，通過系統集成和優化，在較低能耗和較少設備投資的情況下，使出水達到國家排放標準 (甚至可以達到飲用純凈水的標準) ，并對廢水中有用成分盡可能進行回收，以降低成本。
華東理工大學
2021-04-13
用于一氧化氮氧化的莫來石型復合氧化物催化劑
本發明公開了一種用于一氧化氮氧化的催化劑，其特征在于， 所述催化劑為莫來石型復合氧化物，化學通式為 A1-xA'xB2-yB'yO5， 其中，A 和 A'各自獨立地為稀土金屬或堿土金屬元素中的一種，B 和 B'各自獨立地為過渡族金屬元素中的一種，且 0≤x≤1，0≤y≤2。該 催化劑可以在較寬的溫度范圍內高效地將一氧化氮催化氧化為二氧化 氮，且成本低，具有很好的熱穩定性，能長時間保持較高的催化活性， 明顯提高汽車尾氣
華中科技大學
2021-04-14
維意真空高真空金屬有機蒸發鍍膜機支持定制
EV-400高真空金屬有機蒸發鍍膜機
真空腔室：前開門真空腔體，方便取放基片、更換鎢舟、添加蒸發材料以及真空室的日常維護保養；
真空系統：國產分子泵作為主抽泵，真空極限優于5.0?10-5Pa（經烘烤除氣后）；另可選進口磁懸浮分子泵或是低溫泵作為主抽泵，真空極限優于3.0?10-6Pa（經烘烤除氣后）；
真空抽速：大氣～8?10-4Pa≤30min；
蒸發源：4～6組歐美技術金屬或是有機束源爐蒸發源可選，多源共蒸獲得復合膜/分蒸獲得多層膜，功能強大，性能穩定；
蒸發電源：真空專業蒸發電源，恒流/恒功率控制。電流、功率可預先設置，可實現一鍵啟動和停止的自動控制功能；
基片臺：最大120mm基片/15～25mmITO/FTO玻璃25片，可定制一體化高精度刻蝕掩膜板；基片臺公轉，轉速0～20r/min連續可調；
基片臺功能：襯底可選擇加熱（室溫～300℃可調可控）或水冷，基片臺可選升降，源基距最大350mm；
濺射電源：直流脈沖濺射電源、全自動匹配的射頻濺射電源可任選；
膜厚監控儀：可選配國產或進口單水冷探頭膜厚儀；
可鍍材料：可沉積金屬（Au、Ag、Al、Ca、Cu、Mg、Fe、Cr、Ti、Ni等）、非金屬、化合物（MoO3、LiF等）及有機材料，可拓展沉積單層膜、多層膜及混合膜；
控制方式：PLC+觸摸屏控制系統，具備漏氣自檢與提示、通訊故障，實現一鍵抽停真空。
北京維意真空技術應用有限責任公司
2025-04-25
清潔氧化催化劑
南京工程學院
2021-04-13
氧化鈰拋光液
El系列玻璃拋光液是一種優質穩定的拋光耗材，磨料主要采用優質的進口拋光粉為原料，采用嚴格的濕法微濾膜設備控制粒徑，配以自主開發的化學增強拋光助劑，統籌拋光液流變性能，顯示出高速的拋光效率、優質的拋光表面(表面精度高，微劃傷低)。 特點： 1、拋光后的表面質量好。 2、能適用于各種加工方式。 3、可用于眾多零件材料的拋光。 4、高效率，低粘度、易清洗。 5、懸浮性好。 6、使用壽命長。 技術參數： 色澤：淺棕紅色 平均粒度： 0.4—0.5μm PH 值： 8.5-9.5 用途： 1、軍事領域的精密光學元件。 2、激光電子的元器件。 3、科學儀器上的各種零件。 4、照相機、投影儀和各種望遠鏡。 5、液晶顯示屏表面及光盤。 6、其它精密光學元件。 建議拋光濃度： 該拋光劑是濃度為400克/升的濃縮液，建議在使用時先將該拋光液充分搖晃混合均勻，再按比例進行稀釋使用，最終的稀釋濃度可根據需要而定。 拋光墊材料： 適用于各種拋光模材料，如聚胺脂拋光片、黑色拋光墊片、瀝青、毛氈、合成革等。 包裝：20kg/桶
山東麥豐新材料科技股份有限公司
2021-09-01