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產品詳細介紹Enlogic的EN2000 系列產品---IRMC級別測量，輸出端口可開斷系列將電能測量，功率和環境監測與遠程控制輸出端口開/斷技術有機結合在一起，實現了保護和管理您的機柜環境的功能。輸出端口上電順序開啟能防止浪涌電流造成的危害并允許用戶自定義設備的啟動順序及延時。遠程開/端控制技術允許授權用戶遠程控制設備，可通過關閉空載的輸出端口實現機柜電源的管理。 計費級精度的瓦-時電能測量為用戶計費，PUE及效率計量，工程項目規劃以及容量管理提供了精準的電能測量數據。 持續地為IRMC每相的輸入電源和斷路器提供實時監測。該實時監測數據能在每個潛在電源問題發生之前提供預警，并保證用戶更好的實現輸入相和分路之間負荷的平衡，提高設備的可靠性與電源效率。 Enlogic的超薄機身及斷路器的設計吻合了用戶節約機柜空間的需求。每個Enlogic IRMC上可連接多達6個外置傳感器，實現了完整遠程監測和報警的解決方案。企業級的網絡管理允許您輕松的通過HTTP, HTTPS, SNMP, 或Telnet實現管理功能；而與LDAP/S和AD（活動目錄服務）的巧妙整合，允許您輕松的集成到現有的目錄服務中。其他顯著特點包括帶色標識別的輸出端口及斷路器，標準的鎖緊IEC插頭，高可視角的OLED 顯示屏，以及可現場熱插拔的網絡管理卡等提高了產品的可靠性并能減少人為錯誤造成的損失。輸入允許輸入電壓：: 220-240 VAC +6%, -10%每相輸入電流：: 32APhase Type: 1-phase最大輸入功率(kVA)：: 7.68輸入頻率(Hz)：: 50輸入插頭類型：: IEC309 516P6輸入電源線長度：: 3.0m輸出輸出電壓：: 220-240 VAC總輸出端口數：: 32IEC C13 輸出端口數：: 32內置斷路器的數量：: 2斷路器類型: 1-pole hydraulic-magnetic每個斷路器的最大輸出電流(A)：: 16每個輸出端口的最大電流：: 10A物理尺寸長,mm：: 1826 mm深,mm：: 50 mm寬,mm：: 55 mm外殼顏色:: Black環境要求：可運行溫度：: -5 to 55°C可運行相對濕度：: 5-95% RH, non-condensing最高可運行海拔高度：: 0-3,000 m存儲溫度：: -25 to 65°C存儲相對濕度：: 5-95% RH, non-condensing存儲最高海拔高度：: 0-15,000 mCompliance ApprovalsUL: 否EMC: 是安全認證：:環境認證::

產品詳細介紹Enlogic的EN1000 系列產品---IRMC級別測量系列涵蓋了電能測量，功率和環境監測的功能。計費級精度的瓦-時電能測量為用戶計費，PUE及效率計量，工程項目規劃以及容量管理提供了精準的電能測量數據。持續的為IRMC每相的輸入電源和斷路器提供實時監測，該實時監測數據能在每個潛在電源問題發生之前提供預警，并保證用戶更好的實現輸入相和分路之間負荷的平衡，提高設備的可靠性與電源效率。 Enlogic的超薄機身及斷路器的設計吻合了用戶節約機柜空間的需求。每個Enlogic IRMC上可連接多達6個外置傳感器，實現了完整遠程監測和報警的解決方案。企業級的網絡管理允許您輕松的通過HTTP, HTTPS, SNMP, 或Telnet實現管理功能；而與LDAP/S和AD（活動目錄服務）的巧妙整合，允許您輕松的集成到現有的目錄服務中。其他顯著特點包括帶色標識別的輸出端口及斷路器，標準的鎖緊IEC插頭，高可視角的OLED 顯示屏，以及可現場熱插拔的網絡管理卡等提高了產品的可靠性并能減少人為錯誤造成的損失。輸入允許輸入電壓：: 220-240 VAC +6%, -10%每相輸入電流：: 32APhase Type: 1-phase最大輸入功率(kVA)：: 7.68輸入頻率(Hz)：: 50輸入插頭類型：: IEC309 332P6輸入電源線長度：: 3.0m輸出輸出電壓：: 220-240 VAC總輸出端口數：: 42IEC C13 輸出端口數：: 36Total # of IEC C19 Outlets: 6內置斷路器的數量：: 2斷路器類型: 1-pole hydraulic-magnetic每個斷路器的最大輸出電流(A)：: 16每個輸出端口的最大電流：: (C13)10A, (C19)16A物理尺寸長,mm：: 1826 mm深,mm：: 44 mm寬,mm：: 55 mmMax Depth at Circuit Breaker, mm: 56mm外殼顏色:: Black環境要求：可運行溫度：: -5 to 60°C可運行相對濕度：: 5-95% RH, non-condensing最高可運行海拔高度：: 0-3,000 m存儲溫度：: -25 to 65°C存儲相對濕度：: 5-95% RH, non-condensing存儲最高海拔高度：: 0-15,000 mCompliance ApprovalsUL: 否EMC: 是安全認證：:環境認證::

PH06是一款無源同軸塑殼吸（吊）頂音箱，由5個1寸的釹磁球頂高音單元和1個6.5寸釹磁中低音單元構成一個動態余量極大的組合，高音同軸弧形陣列式排布在中低音上方，聲像定位更準，減少墻壁和地板的反射，聲場覆蓋均勻。產品完全自主創新設計，已申請專利。音色清晰明亮、厚實飽滿，可外漏頂部吊掛式安裝，也可以半隱藏頂部鎖扣固定式安裝，可以完美應用于各類室內擴聲場合。

清華大學王保國教授團隊從事膜分離和電化學工程的交叉領域科學研究，迄今已有近 20 年時間。他們從降低能耗角度出發，提出了“一體化”膜電極的概念，其核心是通過在多孔膜中，電催化劑原位取向生長策略，降低電子/氣體/離子的傳遞阻力，從而提高電解水產氫速率。

一種超雙親多孔膜材料及其制備方法和應用，步驟如下：（1）室溫下，先將碳納米管粉體和表面活性劑分散于水中，形成均一混合溶液；（2）向上述混合溶液中加入水性三聚氰胺甲醛樹脂溶液，混勻制得所需反應液；（3）將上述反應液刷涂或噴涂在干凈的多孔基材上，80~120℃干燥固化10~30min，即可制得超雙親油水分離用多孔膜材料。本發明所述的多孔膜材料既保持了原有泡沫銅基底良好的機械性能，同時又具有很好的超雙親性，即可截留水讓油通過，也可截留油讓水通過，從而具有雙重分離效果。

本項目是國家863計劃”85” 和”95”重大項目的階段性研究成果(合作單位:河北省科學院)。 包含”大面積高功率DC Arc Plasma Jet CVD金剛石膜高速沉積設備”和”大面積高質量金剛石自支撐膜制備工藝”兩部分。其目標是向國內外市場提供大面積高質量廉價金剛石自支撐膜。技術基本成熟, 設備和工藝已在廣東、北京和天津的一些工廠和研究院所應用。目前已開發兩種不同功率級別, 100千瓦級和30千瓦級的設備, 工具級金剛石膜沉積速率: 40～50mm/h, 沉積面積: ?110mm (100千瓦級), 或?60mm (30千瓦級)。利用本項目技術生產的工具級金剛石膜可達到的指標: 面積: ????mm (100千瓦級), 或 ???mm (30千瓦級); 厚度: 最大2mm; 維氏硬度: 8000～11000 kg/mm2; 抗彎強度: > 300 MPa。光學級金剛石自支撐膜目前最大面積為?60mm, 厚度約0.6mm, 從紫外(0.22?m)到遠紅外(>20?m, 直至微波)透明, 8～12?m波段透過率～70%, 熱導率～19W/cm.k, 各項物理化學性能均與天然Ⅱa型寶石級金剛石單晶接近。 該項目適用于光學級金剛石自支撐膜: 工業CO2激光器窗口, 需要在極端惡劣工業環境(高溫、腐蝕、幅射、磨損、沖刷等)下工作的光學裝置窗口、軍事窗口等。也可用于中高檔耐用裝飾品制作。 熱沉級金剛石自支撐膜: 半導體二極管激光器熱沉、功率半導體器件(Power IC)的金剛石封裝、MCMs (大規模集成電路的三維立體組裝技術)用大面積金剛石熱沉、高功率微波器件熱沉。 工具級金剛石自支撐膜: 金剛石拉絲模模芯、金剛石自支撐膜釬焊工具、各種抗極度摩擦磨損工具和模具及儀器零件。

本項目所研究的電控調光膜材料即為聚合物分散液晶（Polymer dispersed liquid crystal，簡稱PDLC）薄膜材料，其主要應用領域為電控智能玻璃、大面積柔性液晶顯示等。PDLC薄膜材料是將向列相液晶微滴均勻分散在高分子網絡中而形成的復合材料，當未對PDLC薄膜施加電場時，在高分子網絡的作用下液晶分子的指向矢呈無規分布，薄膜呈強烈光散射狀態；當對PDLC薄膜施加電場時，液晶分子的長軸平行于電場排列（通常PDLC中所使用的液晶的各向介電常數為正），薄膜呈透明狀態。 目前，國外的PDLC薄膜生產廠家均采用熱固化法制備PDLC薄膜，而課題組所采用的為紫外光固化法，是世界上首家可以使用紫外固化法制備PDLC薄膜的科研單位，紫外光固化法相對于熱固化法，其固化速度快、節能環保、成品率高。并且所制備的PDLC薄膜電-光性能優異，綜合電-光性能優于其它國外PDLC薄膜生產廠家所生產的PDLC薄膜。

本項目是國家863計劃”85” 和”95”重大項目的階段性研究成果(合作單位:河北省科學院)。 包含”大面積高功率DC Arc Plasma Jet CVD金剛石膜高速沉積設備”和”大面積高質量金剛石自支撐膜制備工藝”兩部分。其目標是向國內外市場提供大面積高質量廉價金剛石自支撐膜。技術基本成熟, 設備和工藝已在廣東、北京和天津的一些工廠和研究院所應用。目前已開發兩種不同功率級別, 100千瓦級和30千瓦級的設備, 工具級金剛石膜沉積速率: 40～50mm/h, 沉積面積: ?110mm (100千瓦級), 或?60mm (30千瓦級)。利用本項目技術生產的工具級金剛石膜可達到的指標: 面積: ????mm (100千瓦級), 或 ???mm (30千瓦級); 厚度: 最大2mm; 維氏硬度: 8000～11000 kg/mm2; 抗彎強度: > 300 MPa。光學級金剛石自支撐膜目前最大面積為?60mm, 厚度約0.6mm, 從紫外(0.22?m)到遠紅外(>20?m, 直至微波)透明, 8～12?m波段透過率～70%, 熱導率～19W/cm.k, 各項物理化學性能均與天然Ⅱa型寶石級金剛石單晶接近。 該項目適用于光學級金剛石自支撐膜: 工業CO2激光器窗口, 需要在極端惡劣工業環境(高溫、腐蝕、幅射、磨損、沖刷等)下工作的光學裝置窗口、軍事窗口等。也可用于中高檔耐用裝飾品制作。 熱沉級金剛石自支撐膜: 半導體二極管激光器熱沉、功率半導體器件(Power IC)的金剛石封裝、MCMs (大規模集成電路的三維立體組裝技術)用大面積金剛石熱沉、高功率微波器件熱沉。 工具級金剛石自支撐膜: 金剛石拉絲模模芯、金剛石自支撐膜釬焊工具、各種抗極度摩擦磨損工具和模具及儀器零件。

其他成果/n一種槲皮素包合物電紡絲納米膜、其制備方法及應用。制備方法包括步驟：1)將槲皮素與β-環糊精溶于甲醇中，再加入助溶劑，回流攪拌，再持續加熱，減壓蒸餾除去溶劑，機械攪拌，自然降溫靜置過夜，過濾，沉淀依次用蒸餾水、甲醇洗滌，干燥，得到槲皮素-β-環糊精包合物；2)將槲皮素-β-環糊精包合物和玉米蛋白溶解到DMF中，得到電紡溶液；3)電紡絲納米膜的制備。通過本發明得到的槲皮素包合物電紡絲納米膜抑菌的同時有緩釋功能，可以用于野外擦傷碰傷等極端條件下，在長期得不到有效治療時的防止感染、病情惡化的有效治療手段；還可以用于極易腐敗或需要高保鮮度的食品保鮮抗菌膜的研制。

本發明公開了一種多功能單分散納米復合成膜液的制備方法，屬納米材料應用技術領域。其特征是 利用納米TiO2、ZnO、SiO2功能互補性能把納米TiO2、ZnO、SiO2粉體按比例分散在水中，并調節體系的 pH值，加入助成膜劑和成膜劑，使之成膜。采用長時間的超聲振蕩使之呈單分散穩定狀態。用該方法制得 的納米復合成膜液顆粒呈單分散狀態，穩定性優良，可直接作為分散液使用，也可在多種基材上涂覆成膜 且涂膜具有降解有機物、滅菌、耐老化、耐水洗和粘附牢固等優異性能，可廣泛應用于涂料、光催化、環 境凈化等領域，使納米材料的優異性能得以充分發揮。本方法具有工藝過程簡單，易控制，適用于規模化 制造等特點；產品應用廣泛。