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本發(fā)明屬于半導體制造中的套刻誤差測量領域，具體涉及一種基于穆勒矩陣的納米結構套刻誤差提取方法。本發(fā)明采用穆勒矩陣矩陣對角線上的 M13 和 M31 元素，或者 M23 和 M32 元素的線性組合分別直接擬合得到一條直線，利用該擬合直線可直接根據測量穆勒矩陣元素得到套刻誤差。該方法可以實現不同周期下一維套刻結構套刻誤差的快速、準確提取。本發(fā)明方法可以實現一維套刻結構的套刻誤差的快速、準確提取。

本發(fā)明公開了一種基于 Zernike 矩的圖像匹配方法，包括 S1 建 立 N 層模板金字塔圖像；S2 計算每層模板圖像的 K 個矩并建立 RCS 表；S3 建立 N 層目標金字塔圖像；S4 通過查找 RCS 表計算 N 層中第L 層中每個目標子圖像的 K 個矩；S5 計算第 L 層模板金字塔圖像與第 L 層每個目標金字塔圖像子圖像 K 個矩的相關系數，獲得第 L 層目標 金字塔圖像匹配點位置；S6 判斷 L 是否等于 1，若是，則進入 S8；若 否，則 L＝L-1，進入 S7；S7 在第 L 層以

本發(fā)明公開了一種基于 Zernike 矩的圖像匹配方法，包括 S1 建立 N 層模板金字塔圖像；S2 計算每層模板圖像的 K 個矩并建立 RCS表；S3 建立 N 層目標金字塔圖像；S4 通過查找 RCS 表計算 N 層中第L 層中每個目標子圖像的 K 個矩；S5 計算第 L 層模板金字塔圖像與第L 層每個目標金字塔圖像子圖像 K 個矩的相關系數，獲得第 L 層目標金字塔圖像匹配點位置；S6 判斷 L 是否等于 1，若是，則進入 S8；若否 ， 則 L ＝ L 1 ， 進 入 S7 ； S7 在 第

北京鴻達天矩試驗設備有限公司坐落于首都北京市朝陽區(qū)，緊鄰CBD和北京經濟技術開發(fā)區(qū)，是一家集研發(fā)、生產、銷售為一體的環(huán)境試驗設備高新科技企業(yè)。公司擁有一支高素質專業(yè)的設計研發(fā)、生產加工、產品銷售、技術服務隊伍。弘揚“誠信為本、品質至上、服務第一、攜手雙贏”的公司理念。以“團結、創(chuàng)新\高效、品質”為公司發(fā)展目標。綜合業(yè)內大批專家，掌握多項核心技術，憑借公司雄厚的技術力量，先進的生產工藝，完備的檢測手段，建立和實施了符合ISO9002標準要求的質量體系。對每一個零部件，每一道工序嚴格貫徹質量管理體系，不斷追求產品創(chuàng)新，提高產品質量。 公司在自動化控制、非標機械設計，材料老化領域積累了豐富的經驗。依托完美的設計、領先的技術、卓越的品質和迅捷的服務，為科研院校、電工、電子、軍事、航空、船舶、郵電通信、汽摩、醫(yī)療等企事業(yè)單位提供符合GB、GJB、IEC、MIL、ASTM、ISO、JISK標準的各類環(huán)境試驗設備。并可根據用戶的需求設計、制造各類非標環(huán)境試驗設備。在產品設計中融入了CAD及Solidworks技術、微處理程序軟件、固態(tài)電子技術、模糊控制理論、能量調節(jié)理論等多項新技術，保證了設備良好的操作控制性能及可靠性。  

本發(fā)明公開了一種基于偽Zernike矩的語音內容認證方法，水印嵌入時將原始語音信號A分為P幀，每幀分為N段。然后，由每幀前N/2段DCT低頻系數的n階偽Zernike矩幅值的平均值生成水印W，并通過量化每幀的后N/2段DCT低頻系數的偽Zernike矩來嵌入水印，得到含水印語音A′。本發(fā)明充分利用了語音信號DCT低頻系數的偽Zernike矩幅值與語音內容緊密相關的特性，以及對常規(guī)語音信號處理的魯棒性，既保證了對惡意篡改攻擊的敏感性，又保證了良好的容忍一定常規(guī)語音信號處理能力。

本發(fā)明公開了一種透射式全穆勒矩陣光譜橢偏儀及其測量方法，方法是將起偏臂產生的調制光線投射到待測樣件表面，檢偏臂將待測樣件反射(或透射)的光線解調并接收，通過對測量光譜進行諧波分析，計算獲得待測樣件的全穆勒矩陣信息，并通過非線性回歸，庫匹配等算法擬合提取待測樣件的光學常數，特征形貌尺寸等信息。橢偏儀包括起偏臂(包括光源，透鏡組，起偏器和伺服電機驅動的補償器)，待測樣件和檢偏臂(包括伺服電機驅動的補償器，檢偏器，透鏡組和光譜儀)。本發(fā)明可實現各種信息光電子功能材料和器件，以及納米制造中各種納米結構的在線