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本項(xiàng)目發(fā)明了以三分之二匝線圈縱磁觸頭為代表的系列真空滅弧室觸頭新結(jié)構(gòu)和分合閘特性可控的彈簧、永磁操動(dòng)機(jī)構(gòu)，研制開發(fā)了系列環(huán)境友好型輸電等級(jí)單斷口真空斷路器系列產(chǎn)品，其中126kV/2500A/40kA 單斷口真空斷路器技術(shù)指標(biāo)處于國(guó)際領(lǐng)先水平，部分產(chǎn)品出口并在俄羅斯得到廣泛應(yīng)用。相關(guān)產(chǎn)品和技術(shù)成功推廣應(yīng)用于國(guó)內(nèi)電力設(shè)備制造行業(yè)領(lǐng)軍企業(yè)中，對(duì)我國(guó)占領(lǐng)輸電等級(jí)真空電力開斷技術(shù)國(guó)際制高點(diǎn)、發(fā)展環(huán)境友好電力裝備、減少溫室效應(yīng)氣體的使用具有重要意義。

 

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真空涂層技術(shù)起步時(shí)間不長(zhǎng)，國(guó)際上在上世紀(jì)六十年代才出現(xiàn)將 CVD（化學(xué)氣相沉積）技術(shù)應(yīng)用于硬質(zhì)合金刀具上。由于該技術(shù)需在高溫下進(jìn)行（工藝溫度 高于 1000oC），涂層種類單一，局限性很大，起初并未得到推廣。到了上世紀(jì)七十年代末，開始出現(xiàn) PVD（物理氣相沉積）技術(shù)，之后在短短的二、三十年間 PVD 涂層技術(shù)得到迅猛發(fā)展，究其原因： （1）其在真空密封的腔體內(nèi)成膜，幾乎無(wú)任何環(huán)境污染問(wèn)題，有利于環(huán)保； （2）其能得到光亮、華貴的表面，在顏色上，成熟的有七彩色、銀色、透明色、金黃色、黑色、以及由金黃色到黑色之間的任何一種顏色，能夠滿足裝飾性的各種需要； （3）可以輕松得到其他方法難以獲得的高硬度、高耐磨性的陶瓷涂層、復(fù)合涂層，應(yīng)用在工裝、模具上面，可以使壽命成倍提高，較好地實(shí)現(xiàn)了低成本、高收益的效果； （4）此外，PVD 涂層技術(shù)具有低溫、高能兩個(gè)特點(diǎn)，幾乎可以在任何基材上成膜，因此，應(yīng)用范圍十分廣闊，其發(fā)展神速也就不足為奇。真空涂層技術(shù)發(fā)展到了今天還出現(xiàn)了 PCVD（物理化學(xué)氣相沉積）、MT-CVD（中溫化學(xué)氣相沉積）等新技術(shù)，各種涂層設(shè)備、各種涂層工藝層出不窮。

本技術(shù)的真空、反重力充型特點(diǎn)，能夠平穩(wěn)地將液態(tài)金屬充入到鑄型中，使毛坯中含有極少的氣體和氣孔；本技術(shù)的壓力下凝固補(bǔ)縮特點(diǎn),能夠?qū)ρa(bǔ)縮通道施加大的補(bǔ)縮壓力，減少或消除凝固收縮形成的縮松和縮孔缺陷。采用本技術(shù)生產(chǎn)的毛坯中材料的孔隙率可以小于0.05%,獲得高質(zhì)量、優(yōu)質(zhì)毛坯。 本技術(shù)直接對(duì)坩堝內(nèi)和真孔罩內(nèi)部的壓力進(jìn)行調(diào)壓，設(shè)備結(jié)構(gòu)簡(jiǎn)單，密封性好，調(diào)壓空間小，增強(qiáng)了控制系統(tǒng)的快速性與及時(shí)性，降低能耗；爐體具備傾翻機(jī)構(gòu)，坩堝與調(diào)壓管路間采用軟管連接簡(jiǎn)化機(jī)構(gòu)，便于傾倒剩余液體，操作簡(jiǎn)單，降低成本。另外，本技術(shù)通過(guò)對(duì)成型過(guò)程中鑄型內(nèi)液態(tài)金屬液面位置和溫度的檢測(cè)，可根據(jù)所獲得的信號(hào)設(shè)置坩堝內(nèi)的壓力控制，實(shí)現(xiàn)真空調(diào)壓鑄造工藝的精確控制。 主要應(yīng)用范圍： 本技術(shù)適合于各種壁厚的鋁合金及其復(fù)合材料的毛坯生產(chǎn)。 技術(shù)經(jīng)濟(jì)分析： 本技術(shù)為鋁合金及其復(fù)合材料的液態(tài)反重力成型制造技術(shù)，該技術(shù)可以在真空條件下將液態(tài)金屬平穩(wěn)地充入到鑄型（金屬、石墨、樹脂砂、水玻璃砂等鑄型），在壓力下完成凝固，實(shí)現(xiàn)凝固補(bǔ)縮。該技術(shù)能夠達(dá)到的真空度低于－0.1MPa，可以實(shí)現(xiàn)的補(bǔ)縮壓力為0.2MPa。本技術(shù)采用計(jì)算機(jī)實(shí)現(xiàn)真空、充型過(guò)程和凝固補(bǔ)縮過(guò)程的精確控制。 目前，本技術(shù)已經(jīng)成功用于我國(guó)高速客車鋁基復(fù)合材料制動(dòng)盤的制造生產(chǎn)，獲得了優(yōu)質(zhì)的制動(dòng)盤質(zhì)量，取得了好的社會(huì)經(jīng)濟(jì)效益，正在進(jìn)一步推廣應(yīng)用到高強(qiáng)度鋁合金軸箱的成型制造過(guò)程。

真空鍍膜技術(shù)廣泛用于航空、航天、工業(yè)、農(nóng)業(yè)等各行各業(yè)，本單位長(zhǎng)期從事鍍膜技術(shù)的研究和開發(fā)，先后研制出兩臺(tái)鍍膜機(jī)，達(dá)到國(guó)內(nèi)領(lǐng)先水平，同時(shí)開展真空技術(shù)及器件、蒸鋁技術(shù)、濾光片技術(shù)、各種保護(hù)膜的研究和開發(fā)，有多名長(zhǎng)期從事相關(guān)技術(shù)研究的教授和專家，理論基礎(chǔ)扎實(shí)及實(shí)踐能力強(qiáng)。 

產(chǎn)品詳細(xì)介紹真空原位分析表征系統(tǒng)是為紅外光譜吸附態(tài)表征和催化劑酸性測(cè)定設(shè)計(jì)的專用真空系統(tǒng)，配有石英紅外吸收池，可以與Bruker、Nicolet、PE、Shimadzu、Jasco、Varian\Bio-Rad等主要紅外光譜儀連接使用，進(jìn)行氨、吡啶、一氧化碳、一氧化氮、甲醇、乙醇等小分子化合物的化學(xué)吸附測(cè)定。具體應(yīng)用吸附態(tài)研究和催化劑的表征　　紅外光譜已經(jīng)廣泛應(yīng)用于催化劑表面性質(zhì)的研究，其中最有效和廣泛應(yīng)用的是研究吸附在催化劑表面的所謂“探針?lè)肿印钡募t外光譜， 如：NO、CO、CO2、NH3、C3H5N等，, 它可以提供在催化劑表面存在的“活性中心”信息。用這種方法可以表征催化劑表面暴露的原子或離子, 更深入地揭示表面結(jié)構(gòu)的信息。與其它方法相比較, 這樣的紅外研究所獲得的信息只限于探針?lè)肿樱ɑ蚍磻?yīng)物分子）可以接近或勢(shì)壘所允許的催化劑工作表面。? CO吸附態(tài)研究　　由于CO具有電子受授性質(zhì)，未充滿的空軌道很容易同過(guò)渡金屬相互作用。CO同許多重要的催化反應(yīng)有密切關(guān)系。如羰基合成、水煤氣合成、氧化等。并且具有很高的紅外消光系數(shù)。因此, 在過(guò)渡金屬表面吸附態(tài)的研究是一個(gè)十分廣泛的研究課題。? 雙金屬原子簇催化劑的研究（紅外光譜方法研究催化劑表面組成和相互作用）利用兩種氣體混合物吸附在雙組元過(guò)渡金屬催化劑上通過(guò)紅外光譜側(cè)其吸附在不同組元上吸收帶強(qiáng)度的方法可以測(cè)定雙金屬載體催化劑的表面組成。例如：CO和NO混合氣吸附在Pt-Ru/SiO2上的紅外光譜測(cè)定Pt-Ru/SiO2催化劑的表面組成。催化劑紅外酸性測(cè)定? 氧化物表面酸性的測(cè)定　　酸性中心一般看作是氧化物催化劑表面的活性中心。在催化裂化、異構(gòu)化、聚合等反應(yīng)中烴類分子和表面酸性中心相互作用形成正碳離子, 是反應(yīng)的中間化合物。正碳離子理論可以成功地解釋烴類在氧化物表面上的反應(yīng), 也對(duì)酸性中心的存在提供了強(qiáng)有力的證明。為了進(jìn)一步表征固體酸性催化劑的性質(zhì), 需要測(cè)定表面酸性中心的類型（L酸、B酸）、強(qiáng)度和酸量。利用紅外光譜研究表面酸性常常利用氨、吡啶、三甲基胺、正丁胺等堿性吸附質(zhì), 其中應(yīng)用比較廣泛的是吡啶和氨利用紅外光譜研究固體酸。? 氧化物表面羥基的研究? 紅外光譜應(yīng)用于反應(yīng)于反應(yīng)動(dòng)態(tài)學(xué)研究? 催化劑原位表征高真空系統(tǒng)解決的問(wèn)題　　由于紅外光譜方法本身存在一定的局限性。　　1) 利用透射方法研究載體催化劑, 由于大部分載體低于1000cm, 就不透明了,所以很難獲得這一范圍的許多重要信息。　　2) 金屬粒子不同的暴露表面邊、角、階梯、相間界面線等,分子吸附在所有這些中心上的光譜都可對(duì)測(cè)得的光譜有貢獻(xiàn), 因而解釋起來(lái)有困難。　　3) 由于催化反應(yīng)過(guò)程中, 在催化劑表面上反應(yīng)中間物濃度一般都很低,壽命很短（尤其是反應(yīng)活性的承擔(dān)者）, 紅外光譜的靈敏度和速度不夠高。　　4) 紅外光譜只適用于有紅外活性的物質(zhì)。　　隨著光譜技術(shù)的發(fā)展, 這些局限性將通過(guò)真空系統(tǒng)克服。系統(tǒng)基本情況　　一套用于催化劑原位表征的真空裝置及紅外原位測(cè)量系統(tǒng)，配備紅外吸收池統(tǒng)。 提高真空系統(tǒng)的性能使其在較短的時(shí)間內(nèi)達(dá)到測(cè)量需要的中高真空度。主要技術(shù)指標(biāo)　　1. 樣品處理開始后樣品池中真空度應(yīng)在30 分鐘內(nèi)達(dá)到10-5 Torr；　　2. 樣品測(cè)量過(guò)程中各樣品可同時(shí)或分別進(jìn)行吸附或脫附探針?lè)肿樱弧　?. 由于測(cè)量所需探針?lè)肿訛樗嵝曰驂A性分子，高硼硅玻璃材質(zhì)避免了相互污染；　　4、真空處理系統(tǒng)由機(jī)械泵與玻璃四級(jí)擴(kuò)散泵串聯(lián)組合抽氣，達(dá)到客戶對(duì)測(cè)試池中高真空的要求，抽速快，體積小,低噪音，操作簡(jiǎn)單，使用方便的特點(diǎn),并且價(jià)格適中。　　5、低真空部分主要是抽出系統(tǒng)中的高濃度氣體或吸附的殘余氣體。　　6、各部分節(jié)門選用高硼硅玻璃節(jié)門，滿足系統(tǒng)高真空的要求，透明性操作，便于調(diào)試。　　7、真空測(cè)量?jī)x使用數(shù)顯高精密真空計(jì)。　　8、本系統(tǒng)配備透過(guò)式石英紅外吸收池，采用透射模式，可對(duì)樣品進(jìn)行陪燒、流動(dòng)氧化還原、抽空脫氣、吸附反應(yīng)等處理過(guò)程，可隨時(shí)移入或移出到紅外光譜儀的光路中進(jìn)行實(shí)驗(yàn)，也可利用配備的延長(zhǎng)管路進(jìn)行原位表征和實(shí)驗(yàn)。其加熱方式可采用程序升溫方法控制溫度的升降，也可使用調(diào)壓變壓器對(duì)溫度的升降進(jìn)行控制，使用溫度可以高達(dá)450度，標(biāo)準(zhǔn)配置的吸收池窗口為CaF2，工作區(qū)間為4000—1200波數(shù)之間，用戶也可按照需要自性配置其他材料的窗口。　　9. 樣品測(cè)量過(guò)程中各樣品可同時(shí)或分別進(jìn)行預(yù)處理、吸附、脫附探針?lè)肿踊蚋鼡Q樣品。　　10. 波紋管更換方便。　　11．為滿足客戶的要求真空系統(tǒng)可做相應(yīng)改變。配置單序號(hào) 設(shè)備名稱 數(shù)量高真空裝置 1.1 機(jī)械泵 1 1.2 玻璃油擴(kuò)散泵 1 1.3 真空計(jì) 1 1.4 壓力規(guī)表頭 1 1.5 吸附阱、冷卻室、管道、真空工作架、玻璃節(jié)門、電控標(biāo)準(zhǔn)連接件等 1測(cè)量系統(tǒng) 2.1 石英樣品池 1 2.2 溫控裝置 1 2.3 操作手冊(cè) 1

產(chǎn)品詳細(xì)介紹 小型真空碳管爐  產(chǎn)品編號(hào)：52310445116  ◎產(chǎn)品說(shuō)明  設(shè)備技術(shù)：  本電爐為周期作業(yè)式，廣泛用于功能陶瓷、光學(xué)材料、碳復(fù)合材料、硬質(zhì)合金、粉末治金等高溫下進(jìn)行燒結(jié)處理，也可在充氣保護(hù)下成型燒結(jié)。  技術(shù)參數(shù)：  1、型號(hào)：ZT-18-22  2、額定功率：18KW  3、額定溫度：2200℃  儀表控溫精度：正負(fù)1℃  5、控溫方式：鎢錸熱電偶+紅外衣  工作區(qū)尺寸：直徑80x100mm  7、冷態(tài)極限真空度：5x10-3 Pa  8、壓升率：2Pa/h  9、電源電壓：380V 50Hz 單相  10、充氣壓力：<0.03Mpa（可充氮?dú)狻鍤猓?nbsp; 11、發(fā)熱元件：石墨管（高純石墨）  結(jié)構(gòu)與說(shuō)明：  1、爐體：采用雙層水夾層結(jié)構(gòu)，"內(nèi)層為不銹鋼（1Gr18N9Ti）拋光。上、下法蘭組焊筒形結(jié)構(gòu)，法蘭平面開設(shè)封閉槽。采用“0”圈真空密封，并設(shè)有水冷裝置（防止因溫度過(guò)高“0”圈老化）。開設(shè)有抽氣、熱電偶、紅外儀等。  2、爐蓋：采用雙層水夾層封頭結(jié)構(gòu)，設(shè)有觀察窗，屏蔽鎖緊、開啟裝置，并通水冷。  3、爐底：采用雙層水夾層封頭結(jié)構(gòu)，設(shè)有電極引出裝置，支撐平臺(tái)等，并設(shè)有水冷裝置。  4、爐架：山型鋼及鋼板組焊成箱式結(jié)構(gòu)，爐體安裝放在箱體內(nèi)，美觀大方。  5、真空系統(tǒng)：又一臺(tái)K-100擴(kuò)散泵配冷阱，一臺(tái)2XZ-8D直聯(lián)泵、手動(dòng)高真空蝶閥、真空壓力表（Pa）、充氣閥、放氣閥和真空管路等組成，擴(kuò)散泵采用金屬波紋軟管快速接頭聯(lián)接（減緩震動(dòng)），真空度的測(cè)量采用數(shù)顯復(fù)合真空計(jì)。  6、控制系統(tǒng)PLC控制：控制系統(tǒng)是由我公司自行開發(fā)人機(jī)對(duì)話操軟件，畫面顯示友好，操作簡(jiǎn)單，要以爐內(nèi)工況進(jìn)行實(shí)時(shí)監(jiān)測(cè)，軟件彩色模擬屏顯示，加熱升溫顯示及真空閥門的控制都集成到電腦上操作，現(xiàn)場(chǎng)也可以手動(dòng)操作，需要電腦操作時(shí)，直聯(lián)由232接口連接到筆記本電腦上啟動(dòng)軟件，可檢測(cè)到各種狀態(tài)，也可通過(guò)485通訊連接到辦公室操作，本設(shè)備可采納溫度、真空度曲線和燒結(jié)時(shí)間，方便用戶根據(jù)歷史曲線分析燒結(jié)工藝。控溫方式為1300℃以下熱電偶升溫。1000℃-2200℃紅外儀表自動(dòng)控制。壓力控制可采用手動(dòng)及自動(dòng)方式。控制系統(tǒng)上設(shè)有過(guò)流、超溫及斷水等分類報(bào)警功能。  7、氣路系統(tǒng)：整個(gè)系統(tǒng)中設(shè)有1個(gè)j進(jìn)氣口、1個(gè)放氣口、可沖氣氛。  8、電氣控制：采用各種管道閥等相關(guān)裝置組成，具有斷水聲光報(bào)警自動(dòng)切斷電源能。  9、變壓器及連接電纜：采用與之相匹配的變壓器及連接電纜。  10、發(fā)熱元件及隔熱屏：發(fā)熱元件采用高純石墨加工成圓筒形結(jié)構(gòu)，隔熱屏采用石墨復(fù)合材料、碳?xì)帧⑹珰郑匦阅芎谩⒓訜峋鶆颉⑤椛涿娲蟆⒛蜎_擊性好，可快速加熱和冷卻。保溫層和發(fā)熱分體，易維護(hù)和取裝，保溫套外用不銹鋼框架支撐，固定。 

一、產(chǎn)品描述   真空爐產(chǎn)品主要針對(duì)實(shí)驗(yàn)室的日常應(yīng)用開發(fā)，優(yōu)質(zhì)的爐膛材料和穩(wěn)定的溫度控制系統(tǒng)，可保證實(shí)驗(yàn)數(shù)據(jù)的可靠性；產(chǎn)品采用高純氧化鋁材料作為爐膛材料，選用質(zhì)優(yōu)的硅鉬棒發(fā)熱元件作為發(fā)熱體，溫度控制器采用微電腦PID控制模塊，可實(shí)現(xiàn)精確的控溫和恒溫要求。可應(yīng)用于金屬材料、石墨材料、鋰電材料、晶體材料等新材料領(lǐng)域；雙爐門結(jié)構(gòu)設(shè)計(jì)，內(nèi)爐門隔熱，外爐門法蘭密封，優(yōu)質(zhì)的爐膛材料和穩(wěn)定的溫度控制系統(tǒng)可保證長(zhǎng)期的可靠性。 二、產(chǎn)品特點(diǎn) 1、 爐膛材料選用進(jìn)口輕質(zhì)高純氧化鋁陶瓷材料，硬度高、高溫不掉粉，高溫?zé)Y(jié)無(wú)揮發(fā)，環(huán)保安全，符合國(guó)際行業(yè)標(biāo)準(zhǔn) 2、 發(fā)熱體采用優(yōu)質(zhì)硅鉬棒，可承受負(fù)荷大，穩(wěn)定且使用壽命長(zhǎng)；硅鉬棒均勻的排列在爐膛兩側(cè)，溫場(chǎng)均勻性好 3、 升溫速度快，溫度均勻性好，80分鐘可升到1600℃，較行業(yè)內(nèi)同規(guī)格電爐燒結(jié)效率提高3倍以上，安全高效 4、 控溫精度高，沖溫小，具有溫度補(bǔ)償和溫度校正功能，控溫精度為±1℃ 5、 采用智能PID控溫儀表，具有程序功能，可設(shè)定升溫曲線，可編30個(gè)程序段 6、 一體式結(jié)構(gòu)，雙層外殼，水冷結(jié)構(gòu)，出色的外觀設(shè)計(jì)，美觀、大方 7、 電子元器件均采用德力西產(chǎn)品，帶有漏電保護(hù)功能，安全可靠 8、 本機(jī)對(duì)工作過(guò)程中的超溫會(huì)發(fā)出報(bào)警信號(hào)，并自動(dòng)完成保護(hù)動(dòng)作 9、當(dāng)儀表程序設(shè)定完成后，只要按下運(yùn)行按鈕，接下來(lái)的工作會(huì)自動(dòng)完成 10、可選配大屏幕無(wú)紙記錄儀或者RS232通訊接口，實(shí)現(xiàn)對(duì)升溫曲線的實(shí)時(shí)記錄，并帶有存儲(chǔ)卡可對(duì)實(shí)驗(yàn)數(shù)據(jù)進(jìn)行分析和打印