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化學鍍Ni-P具有優良的耐腐蝕性能，在工業生產中獲得了廣泛應用。但是，隨著應用的增多也出現了一些問題。由于化學鍍層是陰極性的，如在施鍍過程中形成針孔、麻點以及使用過程中外力對鍍層的損壞等，往往造成鍍層在腐蝕介質中形成電偶腐蝕，使得鍍層不僅對基體起不到保護作用，反而加速了基體的腐蝕。三元合金Ni-W-P鍍層的出現在一定程度上解決了Ni-P鍍層中所存在的問題。W元素的加入可以提高鍍層的致密性，減小了腐蝕介質穿透鍍層在鍍層與基體之間形成電偶腐蝕的幾率。此外，W是一種自鈍化元素，在腐蝕介質中有利于鍍層表面鈍化膜的形成，提高了鍍層的耐蝕性能，因此，P的含量相近時Ni-W-P鍍層的耐蝕性能優于Ni-P鍍層。但是Ni-W-P鍍層與Ni-P鍍層相比在與基體的結合力上并沒有提高，在后續加工過程中如受到一定外力作用時，鍍層很容易脫落，這就使得鍍層的應用范圍受到了一定的限制。該技術針對現有化學鍍層在使用過程中所存在的問題，提出將含有一定量W元素的Ni-W-P鍍層在高溫下進行熱處理，提高鍍層的結合力和硬度，大幅度提高鍍層的耐蝕耐磨性能，延長鍍層的使用壽命。

化學鍍Ni-P具有優良的耐腐蝕性能，在工業生產中被廣泛應用。但是，隨著應用的增多也 出現了一些問題。由于化學鍍層是陰極性的，如在施鍍過程中形成針孔、麻點以及使用過程中 外力對鍍層的損壞等，往往造成鍍層在腐蝕介質中形成電偶腐蝕，使得鍍層不僅對基體起不到 保護作用，反而加速了基體的腐蝕。 三元合金Ni-W-P鍍層的出現在一定程度上解決了Ni-P鍍層中所存在的問題。W元素的加入 可以提高鍍層的致密性，減小了腐蝕介質穿透鍍層在鍍層與基體之間形成電偶腐蝕的幾率。此 外，W是一種自鈍化元素，在腐蝕介質中有利于鍍層表面鈍化膜的形成，提高了鍍層的耐蝕性 能，因此，P的含量相近時Ni-W-P鍍層的耐蝕性能優于Ni-P鍍層。但是Ni-W-P鍍層與Ni-P鍍層 相比在與基體的結合力上并沒有提高，在后續加工過程中如受到一定外力作用時，鍍層很容易 脫落，這就使得鍍層的應用范圍受到了一定的限制。 該技術針對現有化學鍍層在使用過程中所存在的問題，提出將含有一定量W元素的Ni-W-P 鍍層在高溫下進行熱處理，提高鍍層的結合力和硬度，大幅度提高鍍層的耐蝕耐磨性能，延長 鍍層的使用壽命。 可應用于換熱器、泵、軸、空冷等耐蝕或者耐磨的場合

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在梯形雙噻吩酰亞胺小分子的基礎上，設計并成功合成了一系列具有半梯形結構的全受體類型均聚物PBTIn（n = 1-5），并深入研究了這些材料的構性關系。實驗表明，均聚物的聚合方法選擇至關重要，通過Stille和Yamamoto偶聯方法對比發現，Stille聚合能夠得到高分子量、低缺陷態、高性能的高分子半導體；采用全受體結構能夠有效拉低前沿軌道能級，基于這些均聚物材料的有機薄膜晶體管都表現出良好的單極性n-型性能，晶體管器件的關電流僅為10 ?9 -10 ?10 A，電流開關比高達10 6 ；晶體管遷移率性能與構建單元長度反向關聯，PBTI1的最高電子遷移率為3.71 cm 2  V -1  s -1 ，該遷移率是全受體均聚物材料中的最高紀錄，比PBTI5的電子遷移率高出兩個數量級。? 通過深入表征發現，這一系列全受體類型均聚物表現出來的晶體管遷移率趨勢與其半導體薄膜結構有序度直接相關。拉曼光譜表明，梯形構建單元共軛長度的增加帶來較大的單體間扭轉角，影響聚合物骨架的平面性。同步輻射X射線衍射表明，梯形構建單元的增長使得聚合物薄膜中π-π堆積方向的結晶性降低，不利于電子的分子間傳輸。這些結果表示，較長的單體結構會對聚合物薄膜形貌和載流子傳輸造成負面影響，因此發展更長的梯形構建單元對全受體類型均聚物遷移率的提升不會帶來幫助。該研究表明全受體結構是實現高性能單極性n-型聚合物材料的有效途徑，同時為n-型梯形小分子和聚合物的結構設計和發展提供重要參考依據。

一、產品簡介 捷宇單目攝像頭N300造型簡潔，簡單實用，采用小巧、折疊式的設計，讓用戶收納攜帶更為方便。攝像頭具備1080P高清分辨率，90度視野，寬動態設置，自動識別光線環境，為用戶帶來清晰的畫面和聲音，可作為網絡直播、視頻通話和視頻會議的視訊設備。配置人臉識別軟件，也可做為人臉比對終端。 二、產品特點 高清視頻通話 在常用的平臺（直播、游戲、通訊軟件）進行高清視頻通話。每秒25幀的流暢視頻，同時具有清晰鮮艷且對比度高的畫質。 聲音清晰 內置降噪麥克風讓您的聲音更加清晰，即便在嘈雜的環境中也如此。 寬動態 1080P高清分辨率，90度大視野，寬動態攝像頭，在逆光的環境下自動補償光線，也可清晰拍攝圖像 隨身攜帶 折疊式便攜設計，可折疊攝像頭以保護鏡頭，可以放心將攝像頭放入手提包、錢包甚至口袋中。 三、產品尺寸圖 四、應用領域