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一、項目簡介動力鋰離子電池在社會生產和生活中具有廣泛的應用，比如新能源汽車。發展高能量動力鋰離子電池關鍵之一就是發展具備高儲能能力的正極電極材料。高鎳系鎳鈷錳酸鋰 LiNixCoyMnzO2(NCM)具有高的儲能容量(>200 mAh/g)、高的工作電壓和理論能量密度（800 Wh/kg），能夠滿足單體電池能量密度的要求，是當前重點研究對象。本項目成功發展高鎳系三元正極材料，包括兩個類別即 NCM-1 和 NCM-2。NCM-1 展示了優異的電化學性能，在 2.7-4.5 V 工作電壓區間和 0.1C 倍率下放電比容量大約 210 mAh/g；當倍率增加到 5C 時，放電比容量依然可以達到 150mAh/g；在 0.5 C 倍率下，經過 100 次充放電循環后，其容量保持率在 95%以上。NCM-2 放點比容量較低，但是穩定性能更優。二、產品性能優勢該系列高鎳系三元正極材料具有高的克比容量、優異的循環穩定性和倍率性能。同時，該系列產品采用目前工業化制備方法，便于推廣。三、市場前景及應用2018 年中國鋰電正極材料市場總產值達 540 億元，其中三元正極材料占比最大，達 258 億，總占

本發明屬于鈣鈦礦結構環境協調性壓電陶瓷領域，特別涉及一種鈮酸鉀鈉-鋯鈦酸鉍鈉系無鉛壓電陶瓷，該無鉛壓電陶瓷由通式(1-x)(KuNav)NbO3-xBi0.5Na0.5Zr1-yTiyO3表示，式中，0＜x≤0.05, ?0≤y≤0.3，0.40≤u≤0.55，0.45≤v≤0.60，且u+?v=1。本發明提供的無鉛壓電陶瓷具有較高的壓電性能，所用原料價格低廉，節約成本，有利于促進實用化進程，在工業生產中應用。

一、項目簡介該磷化液使用范圍寬，性能穩定，處理面積大，沉渣少，成本低廉。磷化速度快，磷化液的使用壽命長。磷化膜分布均勻，色澤一致，顯著增強鋼鐵表面的耐蝕性和粗糙度。廣泛用于鋼鐵材料的拉拔冷加工。可以不用硝酸配置，安全性好。二、市場前景成本低廉，操作方便，市場廣闊。三、規模與投資根據市場需求，包括磷化設備最大不超過1萬元。四、生產設備塑料、陶瓷或不銹鋼容器。五、效益分析噸成本約1700元，售價約2600元。六、合作方式配方出售，教授配制和磷化方法，或提供磷化液。

銅銦鎵硒CIGS是由銅、銦、鎵、硒等金屬元素組成的直接帶隙化合物半導體材料，其對可見光的吸收系數為所有薄膜電池材料中最高(104-105cm-1)。目前CIGS電池的光電轉化效率是各種薄膜太陽能電池之首(19.9％)，接近于市場主流產品晶體硅太陽能電池轉換效率，而成本卻是其1/3。與高效率高成本的晶體硅太陽能電池和低效率低成本的非晶硅薄膜太陽能電池相比，CIGS薄膜太陽能電池以其性能穩定、抗輻射能力強、光電轉換效率高等優勢被國際上稱為相當具有潛力和下一代廉價的太陽能電池，已成為光伏領域

該項目針對 30CrMnMoTiA, 30CrNi3A、25Cr2Ni4WA 和 Nil9Co9Mo5 四種含銘、線合金鋼難磷 化及磷化膜耐蝕性能低的實際生產難題，深入研究磷化膜的形成過程和磷化機理, 探討含銘、線合金鋼難磷化的內在原因；通過工藝優化，開發出了解決上面4 種合金難磷化問題的高溫鎰系黑色磷化新技術，開發了新工藝，應用于某廠，建 成了年處理各類零件1200萬件的磷化生產線一條，使廢品率由原來的8~10%降 低為現在的0.5%以內。每年產生直接經濟效益近600萬元，節約成本150萬元。

XM-D024錐體外系（紋狀體-蒼白球）電動模型 ? XM-D024錐體外系（紋狀體-蒼白球）電動模型演示錐體外系傳導、紋狀體-黑質、皮質-紋狀體、紋狀體環路、背側丘腦-皮質環路等。 ? 尺寸：34×34×69cm 材質：PVC材料+木框 ? 標準配置： ■ XM-D024錐體外系（紋狀體-蒼白球）電動模型：1臺 ■ 電源線：1根 ■ 說明書：1冊 ■ 保修卡合格證：1張

光掩膜版(又稱光罩，掩膜版，英文 Photo-mask )是芯片制作中實現設計圖形轉移的載體，是決定其微細結構和線寬精度的核心材料和工具。 目前中國半導體掩膜版的國產化率10%左右，90%需要進口，高端掩膜版國產化率3%，miniLED和microLED產業升級也需要更多高端掩膜版。隨著中國市場需求的持續提升，掩膜版產能嚴重不足。并且中國半導體掩膜版的產業起步較晚，技術滯后，核心技術和裝備基本讓國外公司壟斷，特別是在設備、材料領域眾多技術處于“卡脖子”狀態，例如掩膜版制造的核心裝備光刻機、檢測機、測量機、修復機和貼膜機等都依賴進口，嚴重制約中國半導體產業的發展。華中科技大學徐智謀教授團隊致力于全套高端半導體光掩膜版的關鍵核心技術研發與量產，為“卡脖子”技術研究而努力。 具有建立180 nm技術節點半導體掩膜版量產線相關核心技術；具備130 nm至28 nm半導體掩膜版研發、設計及驗證能力。主要研究成果如下： 1） 工藝突破 團隊掌握了掩膜版MEMS微納加工量產核心技術，如電子束光刻、激光光刻和納米壓印光刻等MEMS微納加工工藝的各類技術參數的搭配和優化，以及大數據量軟件快速處理、補償等。 2） 裝備國產化 A. 超高精度二維測量裝備 尺寸測量是驗證掩膜版技術指標的核心，主要包括關鍵尺寸測量(CD)和長尺寸測量(TP)。團隊已掌握掩膜版的關鍵測量技術，達到國內先進水平，具有整套設備的整機制造能力。 TP測量是掩膜版制作的核心指標，直接影響到客戶的套合精度，該測量設備一直由國外極少數廠商壟斷，且價格昂貴，一般在1000萬美元以上，高端限制對中國出口。團隊目前正在攻克該項技術，已取得階段性成果。 B. 缺陷修復裝備 掩膜版修補技術是提升良品率的關鍵手段，該技術一直為國外壟斷。團隊已熟練掌握UV、DUV激光化學沉積技術及皮秒飛秒激光金屬處理技術，具備整機制造能力，可降低設備采購成本70%以上。 C. Pellicle自動貼膜裝備 隨著產品精度的提升和應用領域的高端化，掩膜版貼膜是個不可缺少的重要環節。在IC制造領域100%掩膜版需貼Pellicle，在IC封裝領域90%以上需貼膜，在LED領域80%以上需貼膜。該貼膜設備一直國外公司壟斷，國內廠家沒有提供，國外采購全自動貼膜設備需100萬美元左右。團隊具備研發制造該設備的能力，貼膜精度±0.1mm,且有設備正式在產線運營，制造成本可節約90%以上。 3） 廠房建設關鍵技術 團隊對MEMS及其掩膜工廠工藝設備廠務設計有豐富經驗，掌握高等級防微震廠房結構和設備平臺的設計施工，可達到VC-D級技術標準，滿足納米級生產技術要求。 【技術優勢】 （1）掌握了高性價比掩膜版量產的關鍵核心技術，包括部分裝備的國產化，解決“卡脖子”技術難題，量產線建設成本節約30%以上； （2）具備28 nm及以下技術節點掩膜版設計開發能力和驗證平臺，驗證周期可縮短3倍； （3）擁有一支20多年以上掩膜版量產、研發和銷售經驗的隊伍，成熟的企業管理經驗，保證企業穩步成長，確保投資風險可控。 【合作方式】 股權投資合作共建或政府孵化+中試線。

創意沙畫是以繪畫治療技術為基礎而研發的，屬于表達性藝術治療的方法之一。方法是讓來訪者透過沙畫的創作過程，利用非語言工具，將混亂的心、不解的感受導入清晰、有趣的狀態。可將潛意識內壓抑的感情與沖突呈現出來，并且在沙畫制作的過程中獲得抒解與滿足，而達到診斷與治療的效果。尺寸：83.5*56*18.7cm；顏色：黑色，材質：防火板，鋁合金邊框；內部畫面尺寸：42cm*58cm,作畫區域內置LED發光體，及輕型鋼化玻璃，底部帶2輪，側面有提手，方便攜帶。 包含： （1）沙畫機1個。 （2）操作臺1個。 （3）沙畫教學視頻1套。 （4）沙畫大師作品欣賞視頻1套。 （5）沙畫背景音樂一套。 （6）教材1本，包含沙畫臨摹圖片200張。 （7）不同顏色細砂2袋。 （8）清潔工具套裝1套。