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硅單晶堿性拋光液及清洗液

一、項目簡介“硅單晶堿性拋光液及清洗液”項目,始自七十年代中期,不斷對產(chǎn)品研發(fā)與升級。FA/O硅單晶堿性拋光液，具有較高的拋光速率，能有效去除襯底表面損傷層，表面微粗糙度較低，可解決襯底片結(jié)底不平引起的噪聲增加、漏電流增大，實現(xiàn)了表面高完美性，提高了襯底片器件區(qū)的可靠性與襯底片良品率。FA/O硅單晶清洗液，采取特有的物理優(yōu)先吸附，有效去除拋光片表面顆粒物、有機(jī)物沾污，清洗后襯底片表面重金屬離子降至ppm級，達(dá)到了易清洗、高潔凈。二、項目技術(shù)成熟程度該項目的研發(fā)、應(yīng)用，滿足了硅單晶襯底片加工高去除速率、低表面粗糙度、高表面完美性、易清洗、高表面潔凈、高可靠性等指標(biāo)的工業(yè)要求。自1994年至今，產(chǎn)品已累積銷售一千多噸，性能穩(wěn)定、質(zhì)量可靠。三、技術(shù)指標(biāo)（包括鑒定、知識產(chǎn)權(quán)專利、獲獎等情況）拋光液拋光速率1.2-1.5um/min,粗糙度達(dá)A級。清洗劑可達(dá)到微電子的需求。研發(fā)的拋光液獲國家1983年發(fā)明四等獎、1990年發(fā)明三等獎、清洗技術(shù)獲1999年國家三等獎。拋光液、拋光清洗液列為國家級科技成果重點推廣計劃，列為國家重點新產(chǎn)品。申請專利授權(quán)中3項，授權(quán)6項。四、市場前景（應(yīng)用領(lǐng)域、市場分析等）據(jù)統(tǒng)計，僅中國（含臺灣地區(qū)）硅單晶拋光液的年需求額40多億元。FA/O硅單晶堿性拋光液，廣泛用于硅分立器件、功率器件與集成電路襯底片加工。已多年供應(yīng)國內(nèi)華潤華晶、洛陽鼎晶、深圳深愛等多家知名企業(yè)，被指定唯一用于國家航天神五至神十專用集成電路高可靠襯底拋光片加工，具有廣泛的市場應(yīng)用前景。FA/O硅單晶清洗液，廣泛用于要求易清洗、高潔凈的硅襯底片清洗。已被中科晶電信息材料有限公司等多家知名企業(yè)應(yīng)用，市場應(yīng)用前景廣泛。五、規(guī)模與投資需求（資金需求、場地規(guī)模、人員等需求）年產(chǎn)量5000噸的生產(chǎn)規(guī)模投資為約3000萬元，需千級以上超凈化廠房。可依產(chǎn)能需求調(diào)整資金投入。產(chǎn)品生產(chǎn)控制節(jié)點少，操作人員需求少，適于自動化生產(chǎn)。六、生產(chǎn)設(shè)備低壓真空系統(tǒng)、百級超凈車間、去離子水系統(tǒng)等。七、效益分析生產(chǎn)工藝與操作簡單、成本低、環(huán)保性好，效益較高。八、合作方式主要采取合作生產(chǎn)、代理代銷，可提供技術(shù)支持與培訓(xùn)，或面談。九、項目具體聯(lián)系人及聯(lián)系方式（包括電子郵箱）項目聯(lián)系人：劉玉嶺聯(lián)系電話：022-60204128Email：liuyl@jingling.com十、高清成果圖片2-3張

河北工業(yè)大學(xué) 2021-04-11

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