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目前主流的抗菌膜制備方法是在基膜表面接枝抗菌物質(zhì)，常用的抗菌材料包括氧化石墨烯、碳納米管、抗菌聚合物、金屬離子等，但這些材料普遍存在著接枝方式復(fù)雜，且對環(huán)境有危害的缺陷。相比而言，季銨鹽類抗菌劑具有抗菌效果好，環(huán)境友好等特點(diǎn)，目前水溶性的小分子或高分子季銨鹽抗菌劑已經(jīng)廣泛應(yīng)用于水處理、食品、醫(yī)療衛(wèi)生和包裝材料等領(lǐng)域。然而，將季銨化合物直接接枝到膜表面所制備的抗菌膜仍存在制備流程復(fù)雜，成本較高等問題，這也使得目前開發(fā)的大部分季銨鹽功能膜無法大規(guī)模應(yīng)用于實(shí)際水處理系統(tǒng)。因此，為解決以上問題，開發(fā)新型親水抗菌功膜的制備方法是目前業(yè)內(nèi)所亟需的。 本成果中提出的制備方法將氯甲基化聚合物制備為中空纖維多孔膜，并制作為管殼式膜組件，之后采用過濾操作模式直接將叔胺化合物接枝到組件中的中空纖維膜絲上，從而制備出具有優(yōu)良抗菌性能的季銨化功能膜組件。該制備方法簡單便捷，且接枝穩(wěn)定性高，適合長期大規(guī)模應(yīng)用于實(shí)際膜法水處理體系中，且制備的超濾膜具有良好的親水性和抗菌性。抗菌膜制備簡單便捷，常溫常壓過濾操作即可完成接枝，且接枝穩(wěn)定性高，成本低，對水體中微生物去除率99.9%以上，尤其能抑制微生物在膜上（內(nèi)外表面，孔道壁面）生長。 圖1.性能參數(shù)

主要技術(shù)指標(biāo) （1）．工作溫度：≤500℃ （2）．工作壓力：≤20MPa（表壓） （3）、規(guī)格；25、50、100、200、500、800ml。另可根據(jù)用戶需求定做。 （4）.操作方法                   1、高壓水熱合成反應(yīng)釜用全不銹鋼材料，外殼材質(zhì)為304材質(zhì)。 2、高壓水熱合成反應(yīng)釜使用溫度在500度以下，500度以下；工作壓力≤20MPa 3、高壓水熱合成反應(yīng)釜采用硬密封的原理，不會(huì)泄漏。 4、高壓水熱合成反應(yīng)釜使用時(shí)將法蘭上的螺栓松開，溶液杯取出溶液裝入杯中，然后放在釜體內(nèi)，將上蓋密封槽與杯體上密封球面裝在一起，注意：把緊螺栓時(shí)要對立面把緊，用力要均勻。不要一次性將任何一個(gè)螺栓把緊，當(dāng)對立面螺栓均勻用力把緊時(shí)，再用力將所有螺栓對面把緊，方可進(jìn)行操作升溫。 5、高壓水熱合成反應(yīng)釜當(dāng)溫度達(dá)到要求時(shí)，準(zhǔn)備取出溶液杯將螺栓對立面均勻松開，不允許一次性將任何一個(gè)螺栓全松開，那樣會(huì)損傷上蓋密封槽和杯體上端密封面。 6、高壓水熱合成反應(yīng)釜注意保護(hù)杯體上端密封球面，不能有磕、碰傷，或其它污物。 7、高壓水熱合成反應(yīng)釜使用時(shí)注意清理上蓋密封槽內(nèi)的雜物，不能有污物和雜質(zhì)，如不清理干凈使用時(shí)會(huì)泄漏。 8、高壓水熱合成反應(yīng)釜上蓋外端中心帶有密封絲堵，它是用來檢驗(yàn)溶液杯密封進(jìn)氣試壓接口。日常或使用過程中，不要將它打開，防止泄漏。 9、高壓水熱合成反應(yīng)釜在使用過程中，如有泄漏現(xiàn)象返廠修復(fù)。   有下列情形的，不在保修范圍。 （1）釜體磕、碰變形或嚴(yán)重?fù)p傷。 （2）溶液杯體上端密封球面有磕、碰傷痕 （3）釜體上蓋密封槽有磕、碰劃傷等。

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本產(chǎn)品可將多聯(lián)式空調(diào)連接至智能家居系統(tǒng)，以實(shí)現(xiàn)智能化監(jiān)控與控制。

鄭州水熱合成反應(yīng)釜（HZ-100ML） 1.用   途     水熱合成反應(yīng)釜是為在一定溫度、一定壓力條件下合成化學(xué)物質(zhì)提供的反應(yīng)器。它廣泛應(yīng)用于新材料、能源、環(huán)境工程等領(lǐng)域的科研試驗(yàn)中，是高校教學(xué)、科研單位、化工實(shí)驗(yàn)室進(jìn)行科學(xué)研究的常用小型反應(yīng)器。   2．特    點(diǎn)       水熱合成反應(yīng)釜采用優(yōu)質(zhì)不銹鋼加工而成。內(nèi)膽為聚四氟乙烯材質(zhì)。外形美觀、使用方便。釜體與釜蓋擰緊即可起到密封作用、密封效果長期穩(wěn)定無泄漏。       水熱合成反應(yīng)釜采用外加熱方式，以縮小體積，并有利多反應(yīng)釜處于同一反應(yīng)操作溫度（如將多個(gè)反應(yīng)釜置于烘箱中加熱）。   3．主要技術(shù)指標(biāo)   （1）．工作溫度：≤220℃   （2）．工作壓力：≤3MPa   （3）．升溫、降溫速率：≤5℃/min   （4）.規(guī)格25ml，50ml，100ml，200ml、500ml、800ml、1000ml、2000ml、5000ml另可根據(jù)用戶需求（溫度、外形）定做。   4.  操作方法       將反應(yīng)物系指與釜體內(nèi)，并保證加料系數(shù)小于0.8。當(dāng)反應(yīng)物系有腐蝕性時(shí)要將其置于四氟襯套內(nèi)，方可保證釜體不受腐蝕。   水熱合成反應(yīng)釜置于加熱器內(nèi)，按照規(guī)定的升溫速率升溫至所需反應(yīng)溫度（小于規(guī)定的安全使用溫度）。待反應(yīng)結(jié)束將其降溫時(shí)，也要嚴(yán)格按照規(guī)定的降溫速率操作，以利安全和反應(yīng)釜的使用壽命。當(dāng)確認(rèn)腹內(nèi)溫度低于反應(yīng)物系種溶劑沸點(diǎn)后方能打開釜蓋進(jìn)行后續(xù)操作。  

MS-450高真空多靶磁控濺射鍍膜機(jī) 真空腔室：直徑450?H400mm，1Cr18Ni9Ti優(yōu)質(zhì)不銹鋼材質(zhì)，氬弧焊接，前開門結(jié)構(gòu)； 真空系統(tǒng)：機(jī)械泵+分子泵（進(jìn)口和國產(chǎn)可選）； 極限真空：優(yōu)于5?10-5Pa（經(jīng)烘烤除氣后）； 真空抽速：大氣～8?10-4Pa≤30min； 升降基片臺：2～6英寸基片臺，靶基距60～120mm連續(xù)在線自動(dòng)可調(diào)，旋轉(zhuǎn)0～20r/min可調(diào)，可加熱至500℃（可選水冷功能），可選配偏壓清洗功能； 磁控靶：直徑3英寸2～4只（可升級成直徑4英寸靶2～3只），兼容直流和射頻，可以濺射磁性材料的靶材； 濺射電源：直流脈沖濺射電源、全自動(dòng)匹配的射頻濺射電源可任選； 質(zhì)量流量計(jì)：2～3路工藝氣體，可根據(jù)工藝要求增加； 膜厚監(jiān)控儀：可選配國產(chǎn)或進(jìn)口單水冷探頭膜厚儀； 控制方式：PLC+觸摸屏控制系統(tǒng)，具備漏氣自檢與提示、通訊故障，實(shí)現(xiàn)一鍵抽停真空。

硅溶膠是一種由納米級的二氧化硅（SiO2?）顆粒均勻分散在水或有機(jī)溶劑中形成的膠體溶液。 性能優(yōu)勢 高分散性和穩(wěn)定性：硅溶膠中的二氧化硅顆粒非常小，具有良好的分散性和穩(wěn)定性，不易聚沉。 優(yōu)良的粘結(jié)性：硅溶膠能夠牢固地附著在固體表面，形成堅(jiān)固的膜層，無需額外固化劑。 耐高溫性：硅溶膠具有很高的耐高溫性能，適合在高溫環(huán)境下使用。 環(huán)保性：硅溶膠無毒、無味、無污染，符合現(xiàn)代工業(yè)對環(huán)保材料的要求。

本研究提出一種基于連續(xù)梯度非均勻電場結(jié)合梯度凝膠孔徑分布的靶型多腔電泳裝置(Circular Multicavity Electrophoresis，CME)實(shí)現(xiàn)細(xì)胞外囊泡的分離制備。

西安電子科技大學(xué)機(jī)電工程學(xué)院多智能體研究中心鄭元世教授團(tuán)隊(duì)通過引入了智能體及鄰居的歷史狀態(tài)，提出了一種基于記憶信息的一致性協(xié)議并建立了該協(xié)議下顯式的一致域。