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由仿真化學實驗室、化學三維分子模型和中學化學百科三個模塊組成。仿真化學實驗室提供一個虛擬的化學實驗室環境，包括試管、燒杯、酒精燈、鐵架臺、燒瓶、錐形瓶、集氣瓶、漏斗、導管等這些真實實驗室中的器具，可以自由的搭建實驗儀器、添加藥品，并讓它們進行反應。化學三維分子模型展示化學微觀世界，提供一個全三維的、用于分子演示的平臺。中學化學百科提供詳實的化學資料、數據、概念知識和多樣的數據分類以及簡捷的數據搜索工具，可以通過元素周期表進行查找，也可以通過化合物，科學家等分類信息查找所需資料，并把這些信息以網頁的格式輸出。

針對學習門檻高、教學開展難、實驗原理闡述不明等問題，應用仿真技術形象展示系統器件及運行邏輯。

本研究根據科技部統一部署，依據國家山東半島藍色經濟區戰略規劃、黃 河三角洲高效生態經濟區發展規劃，針對山東省高端裝備制造產業轉型發展需 求，重點突破服務型制造關鍵技術和產業急需的共性關鍵技術；積極拓展“兩 化”融合的發展空間，圍繞制造業轉型升級，推進制造業信息化從單業務應用 向多業務綜合集成轉變，從企業信息應用向業務流程優化再造轉變，從單一企 業應用向產業鏈上下游協同應用轉變。 主要研究內容包括研發覆蓋重點產業的云制造服務平臺，服務 500 家企業； 面向區域內大型骨干企業，攻克產品數字化設計、集團精細化管控、產業鏈協 同等關鍵技術，研發相應的信息化系統平臺，完成 3 家企業應用示范，拉動 30 家企業深化應用；開展智能嵌入式、工業泛在網、傳感網和智能控制等技術攻 關，并在 3 家高端裝備制造企業中集成應用，拉動 20 家企業深化應用；開展自 主知識產權核心軟件與制造物聯關鍵技術成果的應用，新增 10 家以上應用企業； 開展標準、評估、培訓等支撐環境建設，開展信息化指數調查（企業 100 家以 上），完成人才培訓 5 萬人次以上。 本項目獲得國家科技支撐計劃資助，項目執行期 2012.1-2015.12。

1 成果簡介基于網絡及數字媒體平臺的高端信息服務關鍵技術和產業化——通過網絡及數字媒體服務平臺（如數字電視，有線寬帶，電信 e 家平臺等），設計后端高端信息服務體系架構，從而最大化的利用多媒體數字服務平臺構建高端信息服務網絡生態系統平臺并產業化。 項目有利于改變目前網絡數字媒體和計算機軟件的“ 生態鏈”，渠道提供者與服務提供者會占據更為重要的位置， 這也符合我們的實際國情。同時，提升深港和大珠三角地區網絡數字媒體平臺，高端信息服務，系統集成商及數字媒體工業的能力，在數字媒體網絡接入平臺的融合潮流中發展創新性的技術和把握市場機會，快捷有效地開發新的先進技術，拓展新商機，將廣東省及產業示范基地的信息內容服務和增值服務產業做大、做強。2 應用范圍廣東省和大珠三角地區的信息產業，系統集成商，高端信息服務商，與數字媒體網絡行業相關的企業如消費電子產品，通訊產品，數字電視和計算機產品等的數字媒體設計公司，均可受惠。3 效益分析產業化后預期產值超過 1 億元人民幣。

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光掩膜版(又稱光罩，掩膜版，英文 Photo-mask )是芯片制作中實現設計圖形轉移的載體，是決定其微細結構和線寬精度的核心材料和工具。 目前中國半導體掩膜版的國產化率10%左右，90%需要進口，高端掩膜版國產化率3%，miniLED和microLED產業升級也需要更多高端掩膜版。隨著中國市場需求的持續提升，掩膜版產能嚴重不足。并且中國半導體掩膜版的產業起步較晚，技術滯后，核心技術和裝備基本讓國外公司壟斷，特別是在設備、材料領域眾多技術處于“卡脖子”狀態，例如掩膜版制造的核心裝備光刻機、檢測機、測量機、修復機和貼膜機等都依賴進口，嚴重制約中國半導體產業的發展。華中科技大學徐智謀教授團隊致力于全套高端半導體光掩膜版的關鍵核心技術研發與量產，為“卡脖子”技術研究而努力。 具有建立180 nm技術節點半導體掩膜版量產線相關核心技術；具備130 nm至28 nm半導體掩膜版研發、設計及驗證能力。主要研究成果如下： 1） 工藝突破 團隊掌握了掩膜版MEMS微納加工量產核心技術，如電子束光刻、激光光刻和納米壓印光刻等MEMS微納加工工藝的各類技術參數的搭配和優化，以及大數據量軟件快速處理、補償等。 2） 裝備國產化 A. 超高精度二維測量裝備 尺寸測量是驗證掩膜版技術指標的核心，主要包括關鍵尺寸測量(CD)和長尺寸測量(TP)。團隊已掌握掩膜版的關鍵測量技術，達到國內先進水平，具有整套設備的整機制造能力。 TP測量是掩膜版制作的核心指標，直接影響到客戶的套合精度，該測量設備一直由國外極少數廠商壟斷，且價格昂貴，一般在1000萬美元以上，高端限制對中國出口。團隊目前正在攻克該項技術，已取得階段性成果。 B. 缺陷修復裝備 掩膜版修補技術是提升良品率的關鍵手段，該技術一直為國外壟斷。團隊已熟練掌握UV、DUV激光化學沉積技術及皮秒飛秒激光金屬處理技術，具備整機制造能力，可降低設備采購成本70%以上。 C. Pellicle自動貼膜裝備 隨著產品精度的提升和應用領域的高端化，掩膜版貼膜是個不可缺少的重要環節。在IC制造領域100%掩膜版需貼Pellicle，在IC封裝領域90%以上需貼膜，在LED領域80%以上需貼膜。該貼膜設備一直國外公司壟斷，國內廠家沒有提供，國外采購全自動貼膜設備需100萬美元左右。團隊具備研發制造該設備的能力，貼膜精度±0.1mm,且有設備正式在產線運營，制造成本可節約90%以上。 3） 廠房建設關鍵技術 團隊對MEMS及其掩膜工廠工藝設備廠務設計有豐富經驗，掌握高等級防微震廠房結構和設備平臺的設計施工，可達到VC-D級技術標準，滿足納米級生產技術要求。 【技術優勢】 （1）掌握了高性價比掩膜版量產的關鍵核心技術，包括部分裝備的國產化，解決“卡脖子”技術難題，量產線建設成本節約30%以上； （2）具備28 nm及以下技術節點掩膜版設計開發能力和驗證平臺，驗證周期可縮短3倍； （3）擁有一支20多年以上掩膜版量產、研發和銷售經驗的隊伍，成熟的企業管理經驗，保證企業穩步成長，確保投資風險可控。 【合作方式】 股權投資合作共建或政府孵化+中試線。

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本發明公開了一種電流源型數模綜合仿真系統接口和物理仿真 子系統接口。電流源型數模綜合仿真系統接口包括物理仿真子系統接 口、測量單元、數字仿真子系統接口和控制系統；物理仿真子系統接 口包括：三個輸入變壓器，三個電流源型整流器，三個電流源型跟隨 器，多個儲能電感，以及三相輸出濾波器；每個電流源型整流器包括M 個電流源型三相全橋整流器，每個電流源型跟隨器包括 N 個電流源 型單相全橋逆變器，M、N 為正整數。該電流源型數模綜合仿真系統 接口可以將物理仿真子系統和數字仿真子系統綜合起來，構成整個電 力系統的