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本項目提出一種創新的集成電路(IC)制造工藝路線，即壓印光刻(Imprint Lithography－IL)技術，并對該技術相關的壓印和脫模工藝機理、紫外光固化阻蝕膠材料的物化和工藝特性、與IC制造其它工藝的綜合集成和優化、壓印光刻設備的關鍵技術等進行研究和技術開發。其基本原理為：以電子束直寫刻蝕(或其它刻蝕技術)生成IC圖型母板(模具)，以母板(模具)步

所設計的頭盔顯示器目鏡畸變系數低于5%，色差小，視場角達到120度，放大率合適。配合光路結構達到非常理想的成像效果。結構采用2k分辨率的高z清顯示屏。 所設計的相關控制電路模塊精確簡單，并且對頭盔姿態響應敏感、準確。高清顯示屏顯示內容準確，刷新速率滿足要求。整個驅動電路在響應速度上延遲不超過20ms，人眼難以察覺。

本發明公開了一種用于浸沒式光刻的浸液溫控系統，包括：用 于浸液流動的浸液管路，待溫控的浸液通過一管路進口進入該浸液管 路，溫控處理后的具有穩定溫度的浸液通過該浸液管路的出口輸出； 用于對所述浸液進行冷卻的工藝冷卻液回路，工藝冷卻液在該回路中 循環流動；以及多個熱交換器，其沿流向依次布置，所述浸液管路和 工藝冷卻水回路同時流經每個熱交換器，并利用各熱交換器分別依次 完成工藝冷卻液和浸液之間的熱交換，從而通過多次換熱獲得具有穩 定溫度的浸液，實現對浸液的溫度控制。本發明的裝置系統采用內部 回流結構與多級熱交換器相結合，實現對浸液溫度的多級控制，可以 實現浸沒光刻中對浸液穩定的精確穩定的控制，提供溫控效率。 

本發明公開了一種光刻掩模優化設計方法，該方法首先依據表 征掩模的網格格點尺寸大小對掩模進行分級，在粗網格上快速求解掩 模，然后對在粗網格上求解得到的掩模進行插值傳播到下一級較細網 格上進行細化校正，最終實現了掩模的快速優化。 

微納米結構成形是光電子制造中的核心工藝之一。壓印光刻克服了傳統光學光刻中光學衍射效應的限制，是一種經濟、高效、高分辨的結構成形方法。 正在探索的壓印工藝方法包括：UV-NIL、模板電誘導自組裝納米成形、電潤濕驅動納米壓印等。   正在探討壓印光刻的應用領域包括：集成電路(IC)、微機電系統(MEMS)、生物微流控、光波導、光或磁存儲、有機光電子、平板顯示等器件的制造。

研發階段/n1、在該方向發表論文10余篇，Nature子刊，Science子刊各一篇。。2、申報和獲得該方向相關發明專利8項。其中1項授權轉讓給Facebook，Sony和中國一家企業。在華中科技大學申報5項發明專利，依托武漢舒博光電技術有限公司申報2項發明專利。。3、研發出2代超分辨納米光刻樣機。。4、配備光學裝備開發專門團隊，初步建成光學精密制造和檢測平臺。