一種光學(xué)模鐵磁共振增強的多層膜及其制備方法

新材料及其應(yīng)用

高頻軟磁薄膜的鐵磁共振頻率是集成化微磁電感的上限工作頻率。受限于較低的聲學(xué)模共振頻率，當(dāng)前微磁電感的頻率較低。基于光學(xué)模共振的軟磁薄膜具有非常高的共振頻率，將成為提高微磁電感頻率的新突破口。本發(fā)明主要介紹了實現(xiàn)光學(xué)模共振的多層膜結(jié)構(gòu)及其制備方法，有望用于制備集成化微磁電感或其他磁性薄膜集成器件。

本發(fā)明所述的光學(xué)模共振是從未使用過的新原理，基于光學(xué)模共振的高頻軟磁薄膜材料及其集成電路工藝兼容性制備方法，將有利于將其推廣到集成電路磁性元器件的各個應(yīng)用環(huán)節(jié)，例如，微磁電感、隔離器、耦合器、濾波器等等，具有廣闊的應(yīng)用前景。

未應(yīng)用