一種多元物質(zhì)原子層沉積膜制備方法及裝置

先進制造與自動化

本發(fā)明公開了一種多元物質(zhì)原子層沉積膜制備方法和裝置，所 述方法，即使基片相對于原子層沉積反應腔直線運動，依次通過其內(nèi) 用于完成不同原子層沉積的原子層沉積系統(tǒng)，基片通過每個原子層沉 積系統(tǒng)時：調(diào)整基片溫度為相應原子層沉積反應最適溫度。所述裝置， 包括原子層沉積反應腔、基片承載臺、運動平臺和溫度控制裝置；原 子層沉積反應腔依次設置有多個原子層沉積系統(tǒng)；基片承載臺，設置 在原子層沉積反應腔下方；運動平臺，與基片承載臺連接，帶動基片 承載臺運動；溫度控制裝置，設置在基片承載臺下方。所述方法能高 效快速的制備多元物質(zhì)原子層沉積膜，所述裝置，能方便的通過現(xiàn)有 原子層沉積系統(tǒng)組裝，兼容性強，功耗低，沉積效率高。 

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